咸宁学生服务

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        行業應用

        Industry Application
        光掩膜版(鉻版)
        光掩膜是刻有微電路的高精度版,由表面純平并帶有一層鉻的石英板或玻璃板制作而成,蝕刻后的殘留鉻部分即為設計的微電圖。這種制版方式在掩膜行業稱為光透。
        光掩膜用于芯片制造,主要是IC(集成電路)芯片,還應用于制作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。
        光掩膜所起的作用類似于底片之于相片,光刻通過光掩膜在芯片上顯影。如果圖形通過掩膜版在芯片兩面多次顯影,這種方法就是熟稱的曝光,這個時候的掩膜也可稱為光罩。
        在平整的玻璃板上鍍上金屬鉻薄膜,通過類似照相制版的方法制備,其制作過程就是典型的光刻工藝過程,包括金屬PVD沉積、涂膠、電子束光刻、顯影、鉻層腐蝕及去膠等過程。
        TFT-LCD、CF、CSTN-LCD、STN-LCD、TN-LCD、EL、OLED、PDP、VFD等平板顯示行業;
        HDI、FPC等印制線路板行業;
        IC Bumping、IC基板、導線架等IC相關行業;
        MENS、SENSOR和ENODER等精細電子元器件行業。

        Recommended equipment.

        推薦設備
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