咸宁学生服务

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        HCMS+CA系列

        膜層致密性好

        Good film density
        真空應用解決方案提供商
        首頁 > 裝飾設備 > 磁控濺射鍍膜設備
        Magnetron sputtering vacuum coating equipment 磁控濺射鍍膜設備

              中頻磁控濺射技術已漸成為磁控濺射鍍膜的主流技術,它優于直流磁控濺射鍍膜的特點是克服了陽極消失現象;減弱或消除靶的異?;」夥烹?。因此,提高了濺射過程的工藝穩定性,同時,提高了介質膜的沉積速率數倍。

              在中頻磁控濺射技術的基礎上,新加入的hipims高功率直流脈沖技術,相比原有的中頻磁控濺射,等離子體的繞射性更好、膜層致密度更高、沉積速率大幅提升、工藝可控精細度提高、可鍍涂層種類和顏色增加,在產品上表現為耐腐蝕性增強、膜層硬度增大彈性模量降低、涂層表面摩擦系數更低、涂層顏色光亮度提高。

        開發了平面靶,圓柱靶,孿生靶,對靶等多種形式的中頻濺射靶結構和布局。該類設備廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種多元合金化合物裝飾鍍層。

              該設備提供各種金屬顏色的涂層,如鋼、鎳、金、青銅以及無煙煤和黑色。涂層的顏色是由其成分決定的,由鋯、鈦、氮、碳、氧等金屬組成。我們的工藝工程團隊可以根據您的要求對顏色進行微調,使您有可能在您的市場中獨樹一幟。

        Product Advantage.

        產品優勢
        HCMS+CA系列磁控濺射鍍膜設備包括以下關鍵功能:
        • 高效

          沉積速度快、基材溫升低、膜層損傷小

        • 結構緊湊

          占地面積小,易于集成到工廠

        • 精準

          精確控制鍍層的厚度

        • 優質

          薄膜純度高、致密性好、成膜均勻性好

        • 多樣化

          不同金屬、合金、氧化物混合濺射

        • 監控

          本地或遠程監控鍍膜過程

        型號 HCMS-1212CA
        真空室尺寸 Ф1200×H1200mm
        制膜種類 多功能金屬膜、復合膜、透明導電膜、增返射膜、電磁屏蔽膜、裝飾膜等
        電源類型 直流磁控電源、中頻磁控電源電源、高壓離子轟擊電源
        靶類型 直流磁控靶、中頻孿生靶、平面靶、圓柱靶
        真空室結構 立式雙開門、立式單開門
        真空系統 機械泵+羅茨泵+擴散泵+維持泵(或選配:分子泵、深冷系統)
        充氣系統 質量流量控制儀(1-4路)
        極限真空 6×10-4pa(空載、凈室)
        抽氣時間 空載大氣抽至5×10-3pa小于13分鐘
        工件旋轉方式 6軸/8軸/9軸公自轉/變頻無級調速
        控制方式 手動+半自動+全自動一體化/觸摸屏+PLC
        備注 真空室尺寸可按客戶產品及特殊工藝要求訂做
        型號 HCMS-1612CA
        真空室尺寸 Ф1600×H1200mm
        制膜種類 多功能金屬膜、復合膜、透明導電膜、增返射膜、電磁屏蔽膜、裝飾膜等
        電源類型 直流磁控電源、中頻磁控電源電源、高壓離子轟擊電源
        靶類型 直流磁控靶、中頻孿生靶、平面靶、圓柱靶
        真空室結構 立式雙開門、立式單開門
        真空系統 機械泵+羅茨泵+擴散泵+維持泵(或選配:分子泵、深冷系統)
        充氣系統 質量流量控制儀(1-4路)
        極限真空 6×10-4pa(空載、凈室)
        抽氣時間 空載大氣抽至5×10-3pa小于13分鐘
        工件旋轉方式 6軸/8軸/9軸公自轉/變頻無級調速
        控制方式 手動+半自動+全自動一體化/觸摸屏+PLC
        備注 真空室尺寸可按客戶產品及特殊工藝要求訂做
        型號 HCMS-1912CA
        真空室尺寸 Ф1900×H1200mm
        制膜種類 多功能金屬膜、復合膜、透明導電膜、增返射膜、電磁屏蔽膜、裝飾膜等
        電源類型 直流磁控電源、中頻磁控電源電源、高壓離子轟擊電源
        靶類型 直流磁控靶、中頻孿生靶、平面靶、圓柱靶
        真空室結構 立式雙開門、立式單開門
        真空系統 機械泵+羅茨泵+擴散泵+維持泵(或選配:分子泵、深冷系統)
        充氣系統 質量流量控制儀(1-4路)
        極限真空 6×10-4pa(空載、凈室)
        抽氣時間 空載大氣抽至5×10-3pa小于13分鐘
        工件旋轉方式 6軸/8軸/9軸公自轉/變頻無級調速
        控制方式 手動+半自動+全自動一體化/觸摸屏+PLC
        備注 真空室尺寸可按客戶產品及特殊工藝要求訂做
        型號 HCMS-2121CA
        真空室尺寸 Ф2100×H2100mm
        制膜種類 多功能金屬膜、復合膜、透明導電膜、增返射膜、電磁屏蔽膜、裝飾膜等
        電源類型 直流磁控電源、中頻磁控電源電源、高壓離子轟擊電源
        靶類型 直流磁控靶、中頻孿生靶、平面靶、圓柱靶
        真空室結構 立式雙開門、立式單開門
        真空系統 機械泵+羅茨泵+擴散泵+維持泵(或選配:分子泵、深冷系統)
        充氣系統 質量流量控制儀(1-4路)
        極限真空 6×10-4pa(空載、凈室)
        抽氣時間 空載大氣抽至5×10-3pa小于13分鐘
        工件旋轉方式 6軸/8軸/9軸公自轉/變頻無級調速
        控制方式 手動+半自動+全自動一體化/觸摸屏+PLC
        備注 真空室尺寸可按客戶產品及特殊工藝要求訂做
        您想要了解更多嗎?

        電話:13316689188

        郵箱:office@hcvac.com

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