咸宁学生服务

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        DLC類金剛石

        低摩擦系數

        減少摩擦損失

        Low friction coefficient, reduce friction loss
        真空應用解決方案提供商
        首頁 > 功能設備 > 類金剛石DLC涂層設備
        Diamond like carbon (DLC) coating equipment 類金剛石DLC涂層設備

              該系列設備具備多種DLC涂層沉積技術,模塊化的涂層設備設計,可根據客產品應用需求,單獨或組合過濾陰極電弧,閉合場磁控濺射,PACVD和離子源技術模塊于DLC沉積設備,適用于多種科學研究,產品開發和批量生產的要求。技術先進,操作方便,能量消耗少,綠色環保等特點,廣泛應用于機械,電子,光學,能源,裝飾等領域。

              HCVAC開發的DLC涂層,具有良好的附著性,高的硬度和耐磨性,低的摩擦系數,低的表面粗糙度,能在多種金屬與合金工模具或零件表面沉積DLC涂層。獨特的低溫涂層技術,還能適用于在塑膠等不耐高溫的材料上沉積DLC涂層。

              DLC涂層具有較高的硬度、優異的減摩耐磨性能、高熱導率、低介 電常數、寬帶隙、良好的光學透過性以及優異的化學惰性和生物兼容性等,在航空航天、機械、電子、光學、裝飾外觀保護、生物醫學等領域有著廣闊的應用前景。DLC涂層適合于磨損和滑動的環境下,在沒有任何潤滑介質的條件下,可以降低摩擦損耗,可以用于汽車發動機零部件(燃油噴射系統、動力傳動系統)、軸承、滾輪、紡織機械、航空航天等眾多領域。

              DLC涂層設備制備的DLC涂層(類金剛石涂層),具備質量穩定,與基體結合力好,耐磨性好,摩擦系數低,耐腐蝕性好等綜合優良性能。廣泛應用于發動機零部件,有色金屬切削刀具,有色金屬及不銹鋼等成型沖壓模具,滑動密封部件,半導體行業模具,注塑模具,紡織行業等。

              針對不同的行業,并根據客戶不同的要求及材料,我們運用不同的工藝及制備方法,設計出相適應的DLC涂層設備,以滿足客戶的需要。

        DLC涂層特點:
        1、是一個很好的自潤滑塑料加工應用涂層;
        2、涂層特別致密,不起化學作用,沉積膜是1~3μm,硬度是2000HV~2500HV;
        3、具有優異的摩擦磨損性能,耐高溫350℃,并具有很高的耐粘接劑和磨粒磨損;
        4、快速、可預見的脫模大大提高質量和生產率,是PECVD涂層塑料加工的首選。

        Product Advantage.

        產品優勢
        HCSH系列類金剛石DLC涂層設備包括以下關鍵功能:
        • 結構緊湊

          占地面積小,易于集成到工廠

        • 一致性

          整個腔室中均勻的鍍膜沉積速率

        • 簡單

          易于操作維護

        • 模塊化

          多種工藝技術靈活組合

        • DLC

          耐用類金剛石涂層鍍膜

        • 監控

          本地或遠程監控鍍膜過程

        型號 HCSH-400
        有效等離子區域 D400×H450mm
        最高工作溫度 550℃
        技術特點 PMAⅡ
        EFC
        AEG
        HIPIMS
        預處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
        陰極 D120 / D160 / W125
        真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
        工作真空≤5×10-3Pa
        工藝周期 關門到開門4~5h
        TiN:2~2.5um
        TiAlN:2~2.5um
        TiSiN:2~3.5um
        設備配置 磁懸浮分子泵
        脈沖偏壓電源
        PC智能控制系統
        標準轉架 D140×4軸
        最大裝載量 200KG
        備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會適當減小
        在線服務支持系統

        Application cases.

        應用案例
        型號 HCSH-650
        有效等離子區域 D650×H750mm
        最高工作溫度 550℃
        技術特點 PMAⅡ
        EFC
        AEG
        HIPIMS
        預處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
        陰極 D120 / D160 / W125
        真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
        工作真空≤5×10-3Pa
        工藝周期 關門到開門5~8h
        TiN:2~2.5um
        TiAlN:2~2.5um
        TiSiN:2~3.5um
        設備配置 磁懸浮分子泵
        脈沖偏壓電源
        PC智能控制系統
        標準轉架 D140×8軸
        最大裝載量 500KG
        備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會適當減小
        在線服務支持系統

        Application cases.

        應用案例
        型號 HCSH-900
        有效等離子區域 D900×H1200mm
        最高工作溫度 550℃
        技術特點 PMAⅡ
        EFC
        AEG
        HIPIMS
        預處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
        陰極 D120 / D160 / W125
        真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
        工作真空≤5×10-3Pa
        工藝周期 關門到開門7~10h
        TiN:2~2.5um
        TiAlN:2~2.5um
        TiSiN:2~3.5um
        設備配置 磁懸浮分子泵×2
        脈沖偏壓電源
        PC智能控制系統
        標準轉架 D140×12軸
        最大裝載量 500KG
        備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會適當減小
        在線服務支持系統

        Application cases.

        應用案例
        型號 HCSH-1800
        有效等離子區域 D900×H1500mm
        最高工作溫度 550℃
        技術特點 PMAⅡ
        EFC
        AEG
        HIPIMS
        預處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
        陰極 D120 / D160 / W125
        真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
        工作真空≤5×10-3Pa
        工藝周期 關門到開門7~10h
        TiN:2~2.5um
        TiAlN:2~2.5um
        TiSiN:2~3.5um
        設備配置 磁懸浮分子泵×2
        脈沖偏壓電源
        PC智能控制系統
        標準轉架 D140×12軸
        最大裝載量 500KG
        備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會適當減小
        在線服務支持系統

        Application cases.

        應用案例
        您想要了解更多嗎?

        電話:13316689188

        郵箱:office@hcvac.com

        咸宁学生服务
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