咸宁学生服务

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        HiPIMS

        大功率脈沖

        磁控濺射

        HiPIMS HIGH POWER IMPULSE MAGNETRON SPUTTERING
        真空應用解決方案提供商
        首頁 > 功能設備 > HiPIMS濺射涂層系統
        High power impulse magnetron sputtering coating system HiPIMS濺射涂層系統

              HiPIMS-800結合了經典直流濺射鍍膜系統的所有優點和最新的HiPIMS技術的能力。該系統共配備六個濺射陰極,其中四個可以在HIPIMS或DC模式下工作。另外兩個直流陰極可以操作,例如,提供更復雜的多層涂層,提供顏色和頂層涂層,或只是增加沉積速率。這些技術在一個過程中的絕對自由組合,以非常低的生產成本提供了有限的涂層設計范圍。在純HiPIMS模式下,沉積速率為2μm/h,處理時間為4-5小時。當所有6個陰極同時工作時,可達到3μm/h。這是迄今為止1.800圓柄工具或5.000可轉位刀片涂層容量的難以置信的低生產時間。

              HiPIMS-800能夠沉積所有可用的HCVAC濺射涂層和市場上幾乎所有的PVD涂層。此外,它是開發定制流程的理想機器??蛻粲押糜脩艚缑妗皵祿晥D”和集成規劃工具“數據計劃”有助于設計單獨的涂層解決方案。您的涂層將使您的產品在市場上脫穎而出,讓用戶獲得競爭優勢。其他功能,如用戶友好的平板電腦和手機遠程控制,便于維護的組件,全自動陰極百葉窗,自動關門和快速更換涂層臺的裝置使HiPIMS-800成為生產和開發最先進的高性能涂層的最佳涂層系統。

        Product Advantage.

        產品優勢
        HiPIMS-800大功率脈沖磁控濺射涂層系統包括以下關鍵功能:
        • 最高效率

          沉積速率高達2μm/小時

        • 一致性

          整個腔室中均勻的鍍膜沉積速率

        • 最大吞吐量

          純HiPIMS AlTiN的工藝周期為4小時30分鐘

        • 快速

          轉換時間最短,覆蓋新的涂層材料和其他工具類型/批次

        • 全自動

          全自動,低維護要求

        • 監控

          本地或遠程監控鍍膜過程

        型號 HiPIMS-800
        鍍膜范圍 ?400mm x 400mm
        基板表 ?400mm x?130mm x 6
        快速批量更換表 可選的
        濺射陰極 6 x 500(包括4個可選的HiPIMS/DC和另外2個DC;所有陰極均配有百葉窗)
        最大基板尺寸?x h ?400mm x 800mm
        鉆孔能力?6 mm x 60 mm 1800個
        插入容量12.7 mm x 3.5 mm 4920個
        最大工件重量 250KG
        沉積速率 在純HiPIMS模式下,2微米/小時。
        在DC或combi模式下,最高可達3微米/小時。
        循環時間* 4.5H
        過程 HiPIMS和使用助推器技術的濺射。
        所有已確定的氟氯烴涂層都是可能的。
        基板預處理(等離子蝕刻) 增壓器,MF和HiPIMS,蝕刻
        導電涂料
        非導電涂層
        非導電基板
        額定功率 80Kw
        每批3微米涂層的功耗* 120kWh
        外形尺寸 1450mm x 3350mm x 2200mm
        重量 約3500Kg
        艙門關閉 自動關閉
        *10 mm銑刀純HiPIMS涂層
        型號 HCSH-400
        有效等離子區域 D400×H450mm
        最高工作溫度 550℃
        技術特點 PMAⅡ
        EFC
        AEG
        HIPIMS
        預處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
        陰極 D120 / D160 / W125
        真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
        工作真空≤5×10-3Pa
        工藝周期 關門到開門4~5h
        TiN:2~2.5um
        TiAlN:2~2.5um
        TiSiN:2~3.5um
        設備配置 磁懸浮分子泵
        脈沖偏壓電源
        PC智能控制系統
        標準轉架 D140×4軸
        最大裝載量 200KG
        備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會適當減小
        在線服務支持系統

        Application cases.

        應用案例
        型號 HCSH-650
        有效等離子區域 D650×H750mm
        最高工作溫度 550℃
        技術特點 PMAⅡ
        EFC
        AEG
        HIPIMS
        預處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
        陰極 D120 / D160 / W125
        真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
        工作真空≤5×10-3Pa
        工藝周期 關門到開門5~8h
        TiN:2~2.5um
        TiAlN:2~2.5um
        TiSiN:2~3.5um
        設備配置 磁懸浮分子泵
        脈沖偏壓電源
        PC智能控制系統
        標準轉架 D140×8軸
        最大裝載量 500KG
        備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會適當減小
        在線服務支持系統
        型號 HCSH-900
        有效等離子區域 D900×H1200mm
        最高工作溫度 550℃
        技術特點 PMAⅡ
        EFC
        AEG
        HIPIMS
        預處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
        陰極 D120 / D160 / W125
        真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
        工作真空≤5×10-3Pa
        工藝周期 關門到開門7~10h
        TiN:2~2.5um
        TiAlN:2~2.5um
        TiSiN:2~3.5um
        設備配置 磁懸浮分子泵×2
        脈沖偏壓電源
        PC智能控制系統
        標準轉架 D140×12軸
        最大裝載量 500KG
        備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會適當減小
        在線服務支持系統
        型號 HCSH-1800
        有效等離子區域 D900×H1500mm
        最高工作溫度 550℃
        技術特點 PMAⅡ
        EFC
        AEG
        HIPIMS
        預處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
        陰極 D120 / D160 / W125
        真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
        工作真空≤5×10-3Pa
        工藝周期 關門到開門7~10h
        TiN:2~2.5um
        TiAlN:2~2.5um
        TiSiN:2~3.5um
        設備配置 磁懸浮分子泵×2
        脈沖偏壓電源
        PC智能控制系統
        標準轉架 D140×12軸
        最大裝載量 500KG
        備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會適當減小
        在線服務支持系統

        Application cases.

        應用案例
        您想要了解更多嗎?

        電話:13316689188

        郵箱:office@hcvac.com

        咸宁学生服务
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