HCCL系列
透明導電膜鍍膜線
本設備廣泛運用在太陽能電池上，透明導電膜作為減反射層和透明電極使用，可以提高太陽能的轉換效率，降低成本，無毒環保，膜層穩定，同時可以消除立式生產線無法大規模生產的弊端，可以大大提高生產量。
設備采用大面積濺射技術，鍍膜機寬度大，可以同時處理很多基片，特別適用于極低成本、高生產率應用，該系統也適用于其他小尺寸和非常薄的基片。
由于采用模塊化設計，鍍膜線可以配備旋轉磁控管，以濺射沉積高性能透明導電氧化物膜層或者多種其他材料，例如金屬和金屬氧化物，可以在真空狀態下或在基片進入真空狀態之前對基片進行預處理，比如對基片進行清洗或蝕刻。
成熟的磁控濺射技術
各自間隔的真空腔室設計
靈活配置載體傳輸系統
可靠加熱控制系統
低成本的高生產率
靈活的動態設計
| 項目 | 性能 |
| 適用基材 | M2、M4硅片 |
| 基材溫度 | ＜150℃ |
| ITO膜性能 |
透過率＞90% 電阻率＜4 × 10-4 Ω · cm |
| 薄膜均勻性 | ≤±5% |
| 節拍 | 40~60s |
| 稼動率 | ≥90% |
| 產能 | 5000~8000片/小時 |
| 項目 | 性能 |
| 適用基材 | M2、M4硅片 |
| 基材溫度 | ＜150℃ |
| 薄膜均勻性 | ≤±5% |
| 節拍 | 40~60s |
| 稼動率 | ≥90% |
| 產能 | 5000~8000片/小時 |
| 項目 | 性能 |
| 適用基材 | M2、M4硅片 |
| 基材溫度 | ＜150℃ |
| 薄膜均勻性 | ≤±5% |
| 節拍 | 40~60s |
| 稼動率 | ≥90% |
| 產能 | 5000~8000片/小時 |
HCVAC-PVD
