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        真空鍍膜機膜厚的不均勻是由哪些問題引起的?

        2020-07-10

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              真空鍍膜機膜厚不均勻的問題經常有聽說,也是很多商家關注的問題,但是膜厚不均勻是如何引起的,大多數人都不了解,從而導致遇到膜厚不均勻的問題,無從下手,下面匯成真空小編為大家詳細介紹一下真空鍍膜機膜厚不均勻的原因,以及現狀,提供給大家了解。


        真空鍍膜機



               無論監控儀精度怎樣,它也只能控制真空室里單點位置的膜厚,一般來講是工件架的中間位置。如果真空鍍膜機此位置的膜厚不是絕對均勻的,那么遠離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現為長期的不均勻性,但有些膜厚度的變化是由蒸發源的不穩定或膜材的不同表現而引起的,所以幾乎是不可能消除的,但對真空室的結構和蒸發源的恰當選擇可以使這些影響最小化。
               在過去幾年中,越來越多的用戶要求鍍膜系統制造廠家提供高性能的小規格、簡便型光學鍍膜系統,同時,用戶對性能的要求不僅沒有降低,反而有所提高,特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化最小化等方面。
              現在,系統的平均尺寸規格已經在降低,而應用小規格設備進行光學鍍膜的生產也已經轉變成為純技術問題。因此,選用現代化光學鍍膜系統的關鍵取決于對以下因素的認真考慮:對鍍膜產品的預期性能,基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。
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