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        真空鍍膜機離子鍍的原理與應用

        2020-07-10

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              市面上離子鍍膜機鍍膜技術應用很廣泛,比如鍍金,鍍銀,鍍鉻等等,都有應用到了離子鍍膜技術,也獲得了眾多商家的認可和追捧,但是很多人對離子鍍的原理,以及他的應用并不是特別的了解,下面匯成真空小編為大家詳細介紹一下:



        離子鍍膜機



               離子鍍在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分電離,并在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下,將蒸發物質或其反應物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應離子鍍、空心陰極放電離子鍍(空心陰極蒸鍍法)、多弧離子鍍(陰極電弧離子鍍)等。
               離子鍍是真空鍍膜工藝的一項新發展。普通真空鍍膜(亦稱真空蒸鍍)時,工件夾固在真空罩內,當高溫蒸發源通電加熱后,促使待鍍材料——蒸發料熔化蒸發。由于溫升,蒸發料粒子獲得一定動能,則沿著視線方向徐徐上升,最后附著于工件表面上堆積成膜。用這種工藝形成的鍍層,與零件表既無牢固的化學結合,有無擴散連接,附著性能很差,有時就像桌面上落的灰塵一樣,用手一摸也會擦掉。然而,離子鍍工藝則有所不同,雖然也是在真空罩內進行的,但這時鍍膜過程是以電荷傳遞的形式來實現的。也就是說,蒸發料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)的吸引下,以很高的速度注入到工件表面。相當于一個從槍管中射出的高速彈頭,可以穿入靶體很深,在工件上形成一種附著牢固的擴散鍍層。 
               離子鍍的作用過程如下:蒸發源接陽極,工件接陰極,當通以三至五千伏高壓直流電以后,蒸發源與工件之間產生輝光放電。由于真空罩內充有惰性氬氣,在放電電場作用下部分氬氣被電離,從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區。帶正電荷的氬離子受陰極負高壓的吸引,猛烈地轟擊工件表面,致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出,從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后,接通蒸發源交流電源,蒸發料粒子熔化蒸發,進入輝光放電區并被電離。帶正電荷的蒸發料離子,在陰極吸引下,隨同氬離子一同沖向工件,當拋鍍于工件表面上的蒸發料離子超過濺失離子的數量時,則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。這就是真空鍍膜機離子鍍技術的簡單作用過程。
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