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        真空鍍膜機離子鍍膜原理及種類

        2020-07-13

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               離子真空鍍膜機在生活中廣泛被利用,因為它無污染,具有沉積速度快,離化率高,離子能量大,設備操簡單,成本低等優勢,因此受眾多商家親昧,那它的真空鍍膜機離子鍍膜原理是怎樣的呢?下面匯成真空小編為大家詳細介紹一下:


        離子真空鍍膜機



               在真空中制備膜層,包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜。
               離子鍍是真空室中,利用氣體放電或被蒸發物質部分離化,在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時,將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來,不僅能明顯地改進了膜質量,而且還擴大了薄膜的應用范圍。其優點是薄膜附著力強,繞射性好,膜材廣泛等。離子鍍膜種類很多,蒸發源加熱方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應加熱等
               然而多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大的區別。多弧離子鍍采用的是弧光放電,而并不是傳統離子鍍的輝光放電進行沉積。簡單的說,多弧離子鍍的原理就是把陰極靶作為蒸發源,通過靶與陽極殼體之間的弧光放電,使靶材蒸發,從而在空間中形成等離子體,對基體進行沉積。
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