離子真空鍍膜機在生活中廣泛被利用，因為它無污染，具有沉積速度快，離化率高，離子能量大，設備操簡單，成本低等優勢，因此受眾多商家親昧，那它的真空鍍膜機離子鍍膜原理是怎樣的呢？下面匯成真空小編為大家詳細介紹一下：
在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜。
離子鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用范圍。其優點是薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等。離子鍍膜種類很多，蒸發源加熱方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應加熱等
然而多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大的區別。多弧離子鍍采用的是弧光放電，而并不是傳統離子鍍的輝光放電進行沉積。簡單的說，多弧離子鍍的原理就是把陰極靶作為蒸發源，通過靶與陽極殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發，從而在空間中形成等離子體，對基體進行沉積。
