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        PVD真空鍍膜機鍍膜技術優勢

        2020-07-14

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              PVD真空鍍膜機鍍膜技術泛應用于組合技術設備,用于適應各種加工要求和工件材料的高速鋼和硬質合金工具,PVD刀具硬質涂層真空鍍膜機高性能涂層是專門設計用于對堅韌和粗糙的工件材料進行高速、打進料加工的工具,工況高熱和高機械負荷,最小或低潤滑和冷卻。隨著PVD技術應用的迅速推廣,吸引了國內外專家們和相關企業積極研發,至今無論是PVD沉積技術、PVD的制備工藝,還是PVD設備配套裝備與部件,都有了長足的進步。那么PVD鍍膜機鍍膜技術有哪些優勢呢?


        pvd真空鍍膜機



               優勢一、冷陰極電弧,陰極電弧技術是在真空條件下,通過低電壓和高電流的弧光放電將靶材氣化、離化成等離子體狀態,從而實現薄膜材料的沉積。最近陰極電弧蒸發源有新的發展,主要是通過有效強制冷卻和電磁場獨特的設計,在兩者共同作用下,使靶材的離化率更高,薄膜性能更加優異。 
               優勢二、陽極層離子源輔助沉積,提高轟擊清洗的質量,特別是可以實現對非導體的鍍前清洗,鍍膜時輔助沉積,提高沉積粒子的能量,改善膜層的結合力。
               優勢三、柱狀或平面狀大面積電弧源,保證高離化率的同時,減少大顆粒沉積的比例,達到既有好的附著力,又有較好的表面光潔度效果。 
               優勢四、中頻磁控濺射,增加離化率,減少電荷積累引起的異常放電,預防靶表面中毒現象,沉積工藝更穩定。 
               優勢五、脈沖高能窄峰直流濺射,提高瞬間的轟擊能量和濺射靶材的離化率(高至50%~60%),接近電弧的離化率。通過電磁場的作用可以大大增加沉積離子的能量,從而改善膜層的結合力和致密性。 
               優勢六、高能脈沖疊加直流偏壓,減少工件的打火,增加沉積離子能量,增強膜基結合力,提高沉積速率。 
               優勢七、磁過濾陰極弧配以高效的電磁過濾系統,將電弧產生的等離子體中的中性宏觀粒子、分子團等大顆粒過濾干凈,經磁過濾后沉積粒子的離化率達100%, 因此制備的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蝕性能好,與基體的結合力更強。
               優勢八、納米復合多層膜,納米沉積技術,是涂層結構未來的發展方向,通過納米級厚度的不同成份沉積層復合結構膜,實現涂層性能的極大增強。 
               優勢九、裝飾性雙色間鍍單一的顏色PVD涂層已滿足不了市場的需求,進而提出雙色間鍍的要求,這是裝飾涂層的發展方向,雙色間鍍的質量成為代表PVD加工企業的生產技術水平標志。 
               優勢十、全封閉非平衡磁控濺射通過全封閉非平衡電磁場的作用,極大地提高真空室內的離化率以及沉積速率,增強膜基結合力和薄膜沉積的均勻性。 
               優勢十一、超低溫捕集泵,通過低溫冷凝效應,迅速捕集真空系統內的殘余氣體,特別是水蒸汽,大大縮短抽真空的時間,獲得潔凈的真空環境。 
               優勢十二、分子泵及深冷泵,綠色環保,大大降低能耗,真空系統抽速穩定,鍍膜工藝穩定可靠,重現性好。深冷泵還可以抽排低飽和蒸汽壓等難抽氣體,保證真空系統的潔凈度。
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