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        真空鍍膜機鈦金鍍膜升級換代的新思路

        2020-07-15

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               鍍膜方式從水鍍跨越到真空鍍,技術也是隨著時間的推移而不斷的升級,生活水平也是不斷的在提高,那么市場對物品外觀的需求也不斷的在改觀,因此隨著社會在變遷,我們的鍍膜方式和思路也在更新換代,下面匯成真空小編為大家詳細介紹一下真空鍍膜機鈦金鍍膜的新思路。


        真空鍍膜機


                鈦金鍍膜是建立在低壓氣體放電的基礎上的鍍膜方式,過高或過低的壓強均不利于放電,再加上往往是一個反應沉積的過程,必須導入反應氣體,因此最佳的沉積壓強應在0.2 Pa-0.6 Pa之間,對于陰極電弧離子鍍甚至要求1Pa的工作壓強,只是傳統的真空獲得設備無法有效地滿足這一條件,為此對工藝的進一步探索留下了懸念。
               但對絕大多數的應用來講,有一點是肯定的,在鍍膜過程中,活性氣體的分壓強(主要是水蒸汽)越低越好,鈦金鍍膜更是如此。所以真空重要的往往不在數量(絕對壓強),而是在于質量(對活性氣體分壓的抑制)。一個真空系統,當壓強達到約0.5 Pa時,其中90%的是水蒸汽,而進入 Pa,水蒸汽含量則可能達到95%。所以真空系統的本底壓強也就是活性氣體的分壓。水蒸汽的來源是由于真空容器內壁和工件吸附氣體的解吸過程,即所謂的放氣。
               沉積膜層化學穩定性的檢測方法中,通常將被鍍工件浸泡在盛有酸堿溶液的容器中,而對膜層的浸蝕作用,并不是容器中酸堿的絕對數量,而是酸堿的濃度和浸泡的時間。同樣在膜層沉積過程,活性氣體對膜層的不利影響也不是真空室內的活性氣體總量,而是活性氣體的分壓強。
               為了讓泵口壓強進入穩定工作的范圍,傳統的方法采用節流措施,這樣必然降低機組對系統的有效抽速,對擴散泵而言,抽速要降至標稱抽速的10%~20%。渦輪分子泵也要降低約50%。在放氣量不變的情況下,擴散泵系統的活性氣體分壓強就會上升至5~10倍,渦輪分子泵系統也要上升至2倍。這一現象是客觀存在的,只是普通鍍膜設備不配置分壓強計,無法覺出而已。在這種應用場合,本底真空就無法表征鍍膜設備真空質量的優劣了。
               任何事物都是由量變到質變?;钚詺怏w作為影響膜層質量的有害成份,視其影響的程度應存在一臨界的壓強,超過此壓強其影響不可忽略,而不及此壓強其影響可以忽略。這樣一來,對配置傳統的高真空機組的設備,如把臨界壓強作為系統本底壓強或本底壓強,顯然是錯誤的,因為在鍍膜階段,活性分壓會明顯上升,甚至遠遠超過臨界壓強。這不僅在鈦金鍍膜,其它凡是有預除氣過程的應用領域都如此。
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