真空鍍膜機大家都不陌生，也大概都知道它的用途，但是真空鍍膜機深入一些的相關知識，有多少人知道呢。比如真空鍍膜機類型，以及應用領域，薄膜的均勻性等。對于真空鍍膜機行業接觸較少的人員來說，應該是對這方面了解甚少，那么下面匯成真空小編為大家詳細介紹一下真空鍍膜機的類型和薄膜的均勻性概念。
真空鍍膜機有很多種類型，應用的行業不一樣，類型也是不一樣的，如：電子產品行業的有光學真空鍍膜機，卷繞行業的有卷繞真空鍍膜機，裝飾行業的有裝飾真空鍍膜機，汽車行業有汽車真空鍍膜機等，應用行業不一樣真空鍍膜機的大小、款式各不相同。
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜。
那么
真空鍍膜機薄膜均勻性概念是怎樣的呢？真空鍍膜機薄膜均勻性有三種：
第一種：厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。
第二種：化學組分上的均勻性，就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。
第三種：晶格有序度的均勻性，這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題，主要分類有兩個大種類: 蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等 。
