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        真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點是怎樣的?

        2020-07-17

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               真空鍍膜機離子鍍技術市場使用占比率非常高,鍍餐具,鍍家居,鍍飾品等都離不開離子鍍膜技術,離子鍍膜技術不僅僅在國內受追捧,國外也是一樣受喜愛。那么,真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點是怎樣的?下面匯成小編為大家詳細介紹一下:

        真空鍍膜機
               離子鍍是結合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發展起來的沉積技術。在真空條件下,采用適當的方式使鍍膜材料蒸發,利用氣體放電使工作氣體和被蒸發物質部分電離,在氣體離子和被蒸發物質離子的轟擊下,蒸發物質或其反應產物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據鍍膜材料不同的蒸發方式和氣體的離化方式,構成了不同類型的離子鍍,下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質廣、沉積速率快等優點。
         
        表 離子鍍的種類及其特點:
        種類 蒸發源 離化方法 工作環境 特點 用途
        直流放電法  電阻  輝光放電dc:0.1kv~5kv  惰性氣體1pa,0.25ma/cm2  結構簡單,膜層結合力強,但鍍件溫升高,分散性差! 耐熱,潤滑等鍍件
        弧光放電法  電子束、燈絲  弧光放電dc:100v 高真空1.33x10-4pa  離化率高,易制成反應膜,可在高真空下成膜,利于提高質量  切削工具、金屬裝飾等鍍件
        空心陰極法  空心陰極  等離子體電子束dc:0v~200v 惰性氣體或反應氣體  離化率高,蒸發速度大,易獲得高純度膜層  裝飾、耐磨等鍍件
        調頻激勵法  電阻、電子束  射頻電場13.56mhzdc:0.1kv~5kv 惰性氣體或反應氣體  離化率高,膜層結合力強,鍍件溫升低,但分散性差  光學、半導體等鍍件
        電場蒸發法  電子束  二次電子dc:1kv~5kv 真空  不純氣體少,能形成較好的膜  電子元件
        多陰極法    電阻、電子束 熱電子dc:0v~5kv 惰性氣體或反應氣體 低速電子離化效果好  裝飾、電子、精密機械等零件
        聚焦離子束法 電阻 聚集離子束dc:0v~5kv 惰性氣體  因離子聚束,膜層結合力強  電子元件
        活性反應法 電子束 二次電子dc:200v 反應氣體o2、n2、ch4、c2h4等  金屬與反應氣體組合能制備多種傾倒物膜層 電子、裝飾、耐磨等鍍件。
         
                以上是匯成真空小編整理出來的真空鍍膜機離子鍍的類型及特點,供大家參考和學習,希望能幫助到大家。
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