咸宁学生服务

<form id="3xzdt"><big id="3xzdt"><meter id="3xzdt"></meter></big></form>

        <big id="3xzdt"></big>

        <track id="3xzdt"><thead id="3xzdt"><menuitem id="3xzdt"></menuitem></thead></track>

        <delect id="3xzdt"><sub id="3xzdt"><p id="3xzdt"></p></sub></delect>

        <form id="3xzdt"></form>

        <progress id="3xzdt"></progress>

        <meter id="3xzdt"></meter>

        <track id="3xzdt"><listing id="3xzdt"><nobr id="3xzdt"></nobr></listing></track>

        <video id="3xzdt"></video>

        新聞中心

        News centres
        首頁 > 新聞中心 > 行業動態 > 陶瓷手機蓋板鍍膜機鍍膜工藝介紹

        陶瓷手機蓋板鍍膜機鍍膜工藝介紹

        2020-07-18

        493
        分享
               手機已經成為人民生活中不可缺少的一部分,人人都有配置一部手機,手機給我們生活帶來了極大的便利。然而隨著手機5G技術的快速發展,陶瓷將憑借它無信號屏蔽以及良好的機械性能成為5G時代比較受關注的材料,未來陶瓷的市場前景將非常廣闊。而陶瓷產品的表面處理是需要用到真空鍍膜機PVD鍍膜工藝,主要是蒸鍍和濺射鍍為主,那么下面匯成真空小編為大家詳細介紹一下這兩種技術。陶瓷手機蓋板鍍膜機鍍膜:真空蒸發鍍膜是在真空條件下,加熱蒸發物質使之氣化并沉淀在基片表面形成固體薄膜。



        陶瓷手機蓋板鍍膜機鍍膜的基本工藝流程:鍍前準備→抽真空→離子轟擊→烘烤→預熔→蒸發→取件→膜層表面處理→成品

        在鍍膜的過程中要進行一些清洗的工作:
               1、鍍件清洗。
               2、蒸發源制與清洗。
               3、真空室與夾具清洗。
               4、安裝蒸發源和鍍件。
         
        陶瓷手機蓋板鍍膜機鍍膜的特點:
               優點:設備簡單易操作,制成的薄膜純度高、質量好,厚度可較準確控制,成膜速率快,效率高,薄膜生長機
         
        理比較簡單。
               缺點:所形成的薄膜在基材上附著力較小,工藝重復性不夠好,不易獲得結晶結構的薄膜。
         
                磁控濺射鍍膜機鍍膜原理:電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(
        或分子)沉積在基片上成膜。
         
        真空鍍膜機磁控濺射主要工藝流程:
               1、基片清洗,主要是用異丙醇蒸汽清洗,隨后用乙醇、丙酮浸泡基片后快速烘干,以去除表面油污;
               2、抽真空,真空須控制在2×104Pa以上,以保證薄膜的純度;
               3、加熱,為了除去基片表面水分,提高膜與基片的結合力,需要對基片進行加熱,溫度一般選擇在150℃~200℃之間;
               4、氬氣分壓,一般選擇在0.01~1Pa范圍內,以滿足輝光放電的氣壓條件;
               5、預濺射,預濺射是通過離子轟擊以除去靶材表面氧化膜,以免影響薄膜質量;
               6、濺射,氬氣電離后形成的正離子在正交的磁場和電場的作用下,高速轟擊靶材,使濺射出的靶材粒子到達基片表面沉積成膜;
               7、退火,薄膜與基片的熱膨脹系數有差異,結合力小,退火時薄膜與基片原子相互擴散可以有效提高粘著力。
         
        真空鍍膜機磁控濺射鍍膜的特點: 
               優點:薄膜純度高,致密,厚度均勻可控制, 工藝重復性比較好,附著力強。
               缺點:設備復雜,靶材利用率低下。
               依據濺射源的不同,真空鍍膜機磁控濺射有直流和射頻之分,兩者的主要區別在于氣體放電方式不同,真空鍍膜機射頻磁控濺射利用的是射頻放電,陶瓷產品使用的是射頻磁控濺射鍍。
        咸宁学生服务
        <form id="3xzdt"><big id="3xzdt"><meter id="3xzdt"></meter></big></form>

              <big id="3xzdt"></big>

              <track id="3xzdt"><thead id="3xzdt"><menuitem id="3xzdt"></menuitem></thead></track>

              <delect id="3xzdt"><sub id="3xzdt"><p id="3xzdt"></p></sub></delect>

              <form id="3xzdt"></form>

              <progress id="3xzdt"></progress>

              <meter id="3xzdt"></meter>

              <track id="3xzdt"><listing id="3xzdt"><nobr id="3xzdt"></nobr></listing></track>

              <video id="3xzdt"></video>