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        光學真空鍍膜機鍍膜技術和裝備

        2020-07-22

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               光學真空鍍膜機給人感覺,遙不可及,但是現如今光學鍍膜機在市場上使用非常廣泛了,也得到了很多廠商的認可和喜愛。今天匯成小編為大家講解一下關于光學鍍膜相關的知識。光學薄膜是現代光學和光電系統最重要的組成部分,在光通信、光學顯示、激光加工、激光核聚變等高科技及產業領域已經成為核心元器件,其技術突破常常成為現代光學及光電系統加速發展的主因。光學薄膜的技術性能和可靠性,直接影響到應用系統的性能、可靠性及成本。隨著行業的不斷發展,精密光學系統對光學薄膜的光譜控制能力和精度要求越來越高,而消費電子對光學薄膜器件的需求更強調超大的量產規模和普通大眾的易用和舒適性。


        光學真空鍍膜機


               光學鍍膜技術在過去幾十年實現了飛快的發展,從舟蒸發、電子束熱蒸發及其離子束輔助沉積技術發展到離子束濺射和磁控濺射技術。近年來在這些沉積技術和裝備領域的主要技術有以下三點:
         
        一、漸變折射率結構薄膜技術與裝備:
                漸變折射率結構薄膜技術與裝備:已經有大量研究工作已經證實Rugate無界面型薄膜結構和準Rugate多種折射率薄膜結構通過加強調制折射率在薄膜厚度方向上分布,能設計出非常復雜的光譜性能,(部分)消除
        了薄膜界面特征,(部分)消除界面效應,如電磁波在界面上比薄膜內部更高密度的吸收中心和散射,也可以增加了薄膜力學穩定性。
         
        二、磁控濺射光學鍍膜系統
                以Leybold Helios和Shincron RAS為代表,磁控濺射技術及裝備在精密光學領域和消費光電子薄膜領域占據越來越大的份額。磁控濺射薄膜沉積過程控制簡單,粒子能量高,獲得的薄膜結構致密穩定。
         
        三、間歇式直接光控:
                間歇式直接光控:以Leybold Optics公司的OMS5000系統為代表,光學鍍膜過程中越來越多地使用間歇式信號采集系統,對鍍膜過程產品片實現直接監控。相對于間接光控和晶控系統,間歇式直接光控系統有利于降低實際產品上的薄膜厚度分布誤差,可以進一步提高產品良率并減少了工藝調試時間。
         
                 以上是匯成小編,精選的光學鍍膜相關知識,希望能幫助對光學真空鍍膜機鍍膜知識感興趣朋友,后期提供更多關于光學鍍膜機鍍膜相關的知識,提供大家學習和參考。
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