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        常見的真空鍍膜機鍍膜技術名稱和注釋

        2020-07-23

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               我們日常生活中大部分物品都會鍍上一層各式各樣的膜層,既是為了外觀美觀,也能延長物品的壽命,也獲得了大家的追捧和熱愛,現在真空鍍膜機已經是我們日常生活中不可分割的一部分,影響著人民的生活習慣,啟到了很大的作用,那么下面匯成真空小編為大家為科普一下常見真空鍍膜機鍍膜技術名稱和注釋。




               1、激光束蒸發laserbeamevaporation:通過激光束加熱蒸發材料的蒸發。
               2、間接加熱的蒸發indirectheatingevaporation:在加熱裝置(例如小舟形蒸發器,坩堝,燈絲,加熱板,加熱棒,螺旋線圈等)中使蒸發材料獲得蒸發所必須的熱量并通過熱傳導或熱輻射方式傳遞給蒸發材料的蒸發。 
               3、閃蒸flashevaportion:將極少量的蒸發材料間斷地做瞬時的蒸發。 
               4、真空濺射vacuumsputtering:在真空中,惰性氣體離子從靶表面上轟擊出原子(分子)或原子團的過程。
               5、反應性真空濺射reactivevacuumsputtering:通過與氣體的反應獲得理想化學成分的膜層材料的真空濺射。 
               6、偏壓濺射biassputtering:在濺射過程中,將偏壓施加于基片以及膜層的濺射。 
               7、直流二級濺射directcurrentdiodesputtering:通過二個電極間的直流電壓,使氣體自持放電并把靶作為陰極的濺射。 
               8、非對稱性交流濺射asymmtricalternatecurrentsputtering:通過二個電極間的非對稱性交流電壓,使氣體自持放電并把靶作為吸收較大正離子流的電極。 
               9、高頻二極濺射highfrequencydiodesputtering:通過二個電極間的高頻電壓獲得高頻放電而使靶極獲得負電位的濺射。 
               10、熱陰極直流濺射(三極型濺射)hotcathodedirectcurrentsputtering:借助于熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電,氣體放電所產生的離子,由在陽極和陰極(靶)之間所施加的電壓加速而轟擊靶的濺射。
               11、熱陰極高頻濺射(三極型濺射)hotcathodehighfrequencysputtering:借助于熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電,氣體放電產生的離子,在靶表面負電位的作用下加速而轟擊靶的濺射。 
               12、離子束濺射ionbeamsputtering:利用特殊的離子源獲得的離子束使靶的濺射。
               13、輝光放電清洗glowdischargecleaning:利用輝光放電原理,使基片以及膜層表面經受氣體放電轟擊的清洗過程。 
               14、物理氣相沉積;PVDphysicalvapordeposition:在真空狀態下,鍍膜材料經蒸發或濺射等物理方法氣化,沉積到基片上的一種制取膜層的方法。
         
        以上是我們經常能接觸的真空鍍膜機鍍膜技術,很多客戶知道有這些真空鍍膜技術,但是很少人知道他們的全名,今天一一列舉出來,希望能幫到大家。
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