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        PVD真空鍍膜機基礎問題問答

        2020-07-24

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                 PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫,中文意思是“物理氣相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術.

        pvd真空鍍膜機
         1.什么是PVD鍍膜技術?

        答:PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫,中文意思是“物理氣相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。 


        2.PVD技術都有那些分類? 都有什么PVD真空鍍膜機?

        答:PVD(物理氣相沉積)技術主要分為三類,真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術的三個分類,相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。近十多年來,真空離子鍍技術的發展是最快的,它已經成為了當代最先進的表面處理方法之一。 


        3.PVD鍍膜的具體原理是什么?

        答:物理氣相沉積是一種物理氣相反應生長法,沉積過程是在真空或低氣氣體放電條件下,涂層物質源是固態物質,經過“蒸發或濺射”后,在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態物質涂層。 


        4.PVD鍍膜與傳統的化學電鍍(水電鍍)相比有何優點?

        答: PVD鍍膜與傳統的化學電鍍的相同點是,兩者都屬于表面處理的范疇,都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。


        兩者的不同點是:PVD真空鍍膜機鍍膜膜層與工件表面的結合力更大,膜層的硬度更高,耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的性能也更穩定;PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛,可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮;PVD鍍膜不會產生有毒或有污染的物質。


        6:采用PVD真空鍍膜機鍍膜技術鍍出的膜層有什么特點?

        答: 采用PVD真空鍍膜機鍍膜技術鍍出的膜層,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數)、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點,膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。 


        7: 請問PVD能在鍍在什么基材上?

        答: PVD膜層能直接鍍在不銹鋼、硬質合金上、鈦合金、陶瓷等表面,對鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進行化學電鍍鉻,然后才適合鍍PVD。 


        8: 請問PVD真空鍍膜機鍍膜能夠鍍出的膜層種類有那些?

        答: PVD鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環保型表面處理方法,它能夠制備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等)、氮化物膜(TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。 


        9: 請問PVD真空鍍膜機膜層的厚度是多少
        答: PVD真空鍍膜機膜層的厚度為微米級,厚度較薄,一般為0.1μm~5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm~2μm,因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能,并能夠維持工件尺寸基本不變,鍍后不須再加工。
         
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