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        多弧離子真空鍍膜機鍍膜技術

        2020-07-24

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                很多朋友問我關于多弧離子真空鍍膜機真空技術方面的問題,當時給朋友解釋了很多,但是也不能講的不是特別全面,今天匯成小編為大家詳細介紹一下:


        多弧離子真空鍍膜機
               多弧離子鍍是采用電弧放電的方法,在固體的陰極靶材上直接蒸發金屬,蒸發物是從陰極弧光放電放出的陰極物質的離子,這種裝置不需要熔池,被蒸發的靶材接陰極,真空室為陽極,當觸發電極與陰極靶突然瞬間接觸時,就會引起電弧,在陰極表面產生強烈發光的陰極弧光斑點,斑點直徑在100μm以下,斑點內的電流密度可達103~107A/cm2于是在這一區域內的材料就瞬時蒸發并電離。陰極弧光斑點在陰極表面上,以每秒幾十米的速度做無規則運動,外加磁場用來控制輝點的運動軌跡和速度,為了維持真空電弧,一般要求電壓為–20到–40 V。多弧離子鍍的原理是基于冷陰極真空弧光放電理論,該理論認為,放電過程的電量遷移是借助于場電子發射和正離子電流這兩種機制同時存在且相互制約而實現的。在放電過程中,陰極材料大量蒸發,這些蒸汽分子產生的正離子,在陰極表面附近很短的距離內產生極強的電場,在這樣強的電場作用下,電子以產生以場電子發射而溢出到真空中,而正離子可占總的電弧電流的10%左右,被吸到陰極表面的金屬離子形成空間電荷層,由此產生強電場,使陰極表面上功函數小的點(晶界或裂痕)開始發射電子。個別發射電子密度高的點,電流密度高。焦耳熱使溫度上升又產生熱電子,進一步增加發射電子。這個正反饋作用使電流局部集中。由于電流局部集中產生的焦耳熱使陰極材料表面局部爆發性地等離子化,發射電子和離子,并留下放電痕。同時也放出熔融的陰極材料粒子。發射的離子中的一部分被吸回陰極表面,形成空間電荷層,產生強電場,又使新的功函數小的點開始發射電子。
         
        多弧離子真空鍍膜機鍍膜技術具有以下特點:
                優點:可以任意安裝使薄膜均勻。外加磁場可以改善電弧放電;使電弧細碎;旋轉速度加快;細化膜層微粒;對帶電粒子產生加速作用。金屬離化率高,有利于薄膜的均勻性和提高附著力,是實現離子鍍膜的最佳工藝。一弧多用,既是蒸發源,又是預轟擊凈化源和離化源。
               缺點:在高的功率下,容易產生金屬大顆粒,從而影響鍍層質量,部分靶材弧光放電不穩定等。減少液滴產生的方法有:降低放電功率密度,提高弧斑運動速度,加強陰極冷卻措施,采用磁過濾等方案。
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