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        磁控濺射真空鍍膜機膜厚均勻性設計大概介紹

        2020-07-25

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              大家知道真空鍍膜機,肯定對磁控濺射技術也是耳熟能詳,因為它涉及到的行業多,自然大家也就熟悉,今天為大家介紹一下磁控濺射真空鍍膜機膜厚均勻性設計,希望能幫到大家更深入的了解這款設備的均勻性設計。



        磁控濺射真空鍍膜機


               濺射鍍膜膜厚均勻性是間接衡量鍍膜工藝的最終標準之一,它涉及鍍膜過程的各個方面。因此,制備膜厚均勻性好的優質薄膜需要建立一個濺射鍍膜膜厚均勻性綜合設計系統,對濺射鍍膜的各個方面進行分類、歸納和總結,找出其內在聯系。一般來說,設計系統的建立應該具備一定的原則,以確定其基本的組織框架。
               以下從四個方面敘述其性質:
               ①一般性:要求系統在一定范圍內是適用或者普遍存在的。對于本課題來說,系統能夠滿足工業上平板基片濺射鍍膜的基本工藝要求,即濺射鍍膜工藝過程的共性問題。
               ②特殊性:系統對特定研究對象達到最佳的適用性。針對大面積平板基片濺射鍍膜來說,就是濺射鍍膜中的尺寸效應成為系統重要部分,如薄膜均勻性,基片加熱的均勻性,材料的線性膨脹和變形,靶面的電流分布,氣體分布和電磁場分布等。這一系列問題被尺寸效應突顯出來。因此尺寸效應成為系統的個性問題。 
               ③開放性:系統各部分是有機結合并不斷發展的。隨著技術的進步,各部分功能必然會得到進一步發展,從而使系統的綜合性能得到提高。自動控制技術的發展使系統的功能變得強大:濺射過程中對等離子體光譜的監控技術,以及對電磁場的操縱能力使得系統對整個濺射過程的參數控制程度達到最大限度,可以實現精細設計。系統的開放性屬于橫向發展。
               ④繼承性:系統發展到一定程度,就會發生由量變到質變的過程。系統在保汪原有功能基礎上不斷完善和提高。薄膜制備技術會隨著理論的發展而逐步深入。對非平衡磁控濺射和等離子體理論研究,促進了濺射技術的進一步發展。隨之而來的是對系統進行升級改造,以實現新的功能。繼承性是系統的縱向發展。
                一般情況下,系統一個部分功能的增強會帶來整體功能的增強,同時降低系統對某些部分的依賴,或者可以理解為,系統兩個必要因素有機結合為一個部分。建立綜合設計系統有助于研究系統內各個部分內在的邏輯關系。大面積濺射鍍膜綜合設計系統可分為三大部分:鍍膜設備的T程設計、鍍膜工藝的設計及各個過程的計算機數值仿真設計。每一部分又分為若千方面,且部分之間相互影響。因為系統比較復雜,所以系統初級階段的建立應該盡量簡化設計參數以提高其實用性。
                 看完以上的磁控濺射真空鍍膜機膜厚均勻性設計知識,是不是對它的了解更深入了一些,其實我們平時雖然對磁控濺射技術很熟悉,也只是停留在淺顯的表面,稍微專業一點我們其實還是了解甚少。后期匯成真空小編會多多發些這方面的專業知識,提供大家閱讀。
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