上次給大家介紹了真空鍍膜機的原理、應用、設計等等，今天匯成真空小編為大家詳細介紹一下真空鍍膜的化學成分，讓大家對真空鍍膜機認識再深一些。首先來介紹一下真空鍍膜機的三點均勻性：
一、厚度上的均勻性：也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙，但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。
二、化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在，具體因素也在下面給出。
三、晶格有序度的均勻性： 這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題?！ ⊙趸镥兡み^程是很復雜的，但其主要影響因素就是鍍膜原料成膜的時候凝聚力、鍍膜與基材的吸附力及基材溫度，而三者之間又相互關聯約束。
從蒸發源射出的蒸汽流脫離蒸鍍原料表面的時候溫度很高，能量也比較高，在上升通過蒸發區到達基材表面的過程中，由于碰撞、運動中的能量交換導致動能下降，到達基材表面的粒子很快與基材交換能量，迅速沉積在其表面。在鍍膜工藝中，離子轟擊改善基材的表面，在蒸發區建立等離子氣體以提高氣化微粒功能等輔助手段，較好地解決了鍍膜與基材結合牢固度的問題。其實在眾多的鍍膜工藝里，氧化物鍍膜工藝和程序是有非常大的難度的，因為它面臨著很多因素影響，環境和材料等等，但是氧化物的鍍膜工藝卻是受到廣大的企業生產的親睞。所以這種鍍膜工藝和設備的發展趨勢會越來越好！
以上是今天匯成小編為大家代理的
真空鍍膜機相關行業知識，希望能幫到大家。
