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        蒸發卷繞式真空鍍膜機機構設計,我們需要考慮哪幾個問題

        2020-07-26

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               提高卷繞速度的問題,卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度,它是卷繞機構的一個主要技術指櫟,國內早期卷繞鍍膜機速度只有10m/min,現在也只有80m/min~120m/min,在國外日本的EW系列產品中

        卷繞鍍膜機

               第一:提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度,它是卷繞機構的一個主要技術指櫟。國內早期卷繞鍍膜機速度只有10m/min,現在也只有80m/min~120m/min,在國外日本的EW系列產品中,其卷繞速度已達到300m/min,德國L.H公司生產的鍍膜機已達到600m/min,可見隨著鍍膜技術的發展,卷繞速度有待提高。
               第二:帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要,因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線速恒定,才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜(如電容器膜)尤為重要。
               第三:帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高,帶狀基材在卷繞鍍膜過程中,起褶和發生偏斜,嚴重時會造成基材的斷裂,使生產中斷,既影響生產效率,又浪費材料。因此,在卷繞機構的設計中應充分考慮這一問題。
               卷繞鍍膜機真空抽氣系統分上室下室兩組,下室為蒸鍍室,要求真空度高,主泵多為油擴散泵。上室為基材卷繞室,要求真空度較低,為羅茨泵機組或擴散泵一羅茨泵一機械泵組。一般蒸鍍室要達到的真空度為1x10^-3Pa—2×10^-3Pa,而工作壓力為1×10^-2Pa—2×10^-2Pa,而卷繞室真空度通常較蒸鍍室低一個數量級。有時卷繞鍍膜機以增擴泵(油擴散泵的一種)為主泵,它的極限壓力雖然不及油擴散泵,但其抽速范圍向高壓方向延伸一個數量級,非常適宜此類蒸發的鍍膜過程。
               目前國內卷繞鍍膜機蒸發源多采用坩堝蒸發,其材質有氮化硼、石墨、鉬等。氮化硼由于電學及熱學性能好,使用壽命長,因而較為普遍地應用于卷繞鍍膜機中。每個坩堝的加熱功率為6kW—8kW,加熱電壓為10V—12V。坩堝數量由基材幅寬來確定。輻寬愈寬坩堝數量愈多。幅寬500mm時4只坩堝,800mm時7只坩堝,1300mm時12只坩堝。坩堝分布是不均勻的,中間部分間距大些,在基材邊緣處間距小,有的最外側坩堝與基材幅寬邊緣重合。
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