真空
鍍膜機使用越來越廣泛，也被大眾所認可，在生活中也啟到了，不可或缺的一部分。那么真空鍍膜前期，和后期鍍膜步驟是怎樣的呢，以及膜的均勻性如何？
前處理工藝:褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝 。鍍膜工藝:抽真空、加熱烘烤、漏率測試、轟擊清洗、鍍膜、冷卻出爐。后處理工藝清洗：確保鍍膜前產品表面的清潔，越新鮮的表面，越能保證鍍膜質量；抽真空：將真空室內的殘余氣體抽走。加熱烘烤：爐體和工件同時加熱，加速殘余氣體的釋放。壓升率測試：測試爐體的漏氣率和放氣率。轟擊清洗：去除工件表面的雜志，露出新鮮表面。鍍膜：沉積膜層。冷卻：避免工件氧化變色
厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋?；瘜W組分上的均勻性: 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空
鍍膜機鍍膜的技術含量所在。晶格有序度的均勻性: 這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題，主要分類有兩個大種類: 蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等 。
