濺鍍，一般指的是磁控濺鍍，歸于高速低溫濺鍍法.
該技能請求真空度在1×10-3Torr擺布，即1.3×10-3Pa的真空狀況充入慵懶氣體氬氣(Ar)，并在塑膠基材(陽極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓直流電，因為輝光放電(glow discharge)發生的電子激起慵懶氣體，發生等離子體，等離子體將金屬靶材的原子轟出，堆積在塑膠基材上.
真空鍍膜機濺鍍的原理是什么
以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子炮擊資料外表，使其濺射出進入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數稱為濺射產額(Yield)產額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等最高，Ti,Mo,Ta,W等最低。一般在0.1-10原子/離子。離子能夠直流輝光放電(glow discharge)發生，在10-1—10 Pa真空度，在兩極間加高壓發生放電，正離子會炮擊負電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。
正常輝光放電(glow discharge)的電流密度與陰極物質與形狀、氣體品種壓力等有關。濺鍍時應盡也許保持其安穩。任何資料皆可濺射鍍膜，即便高熔點資料也簡單濺鍍，但對非導體靶材須以射頻(RF)或脈沖(pulse)濺射;且因導電性較差，濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達10W/cm2，非金屬<5W/cm2
二極濺鍍射：靶材為陰極，被鍍工件及工件架為陽極，氣體(氬氣Ar)壓力約幾Pa或更高方可得較高鍍率。
磁控濺射：在陰極靶外表構成一正交電磁場，在此區電子密度高，進而進步離子密度，使得濺鍍率進步(一個數量級)，濺射速度可達0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是現在最有用的鍍膜技能之一。
蒸發鍍膜機的日常維護
1、例行保養生產設備中發現了一個不好的跡象，立即解決。鍍膜機不要認為這油定期更換，等待維修時間，轉子泵嚴重磨損可能。例如，軸承的一些卡工件轉架，更換軸承，然后等到它完全打破了，可真是個大問題，鍍膜機可能會導致轉架電機燒毀等。
2、定期檢修，鍍膜機有人會問一個日常的維護也需要定期維護？事實上，每個設備都有它自己的生命，如2年油擴散泵的使用壽命，提前更換，鍍膜機在生產階段沒有問題。只要你把日常維護和定期檢修，對設備的使用壽命，在同一時間的延長，生產過程中的失效概率大大減少，提高了生產效率。， 3，不要盲目拆卸。鍍膜機問題的真空部分是困難的，而許多公司不泄漏檢測器，并將逐步找到。為什么不去真空可能有以下幾點： 1也許是泄漏率，也就是我們常說的泄漏； 2也許是真空機組的抽氣能力是不夠的，污染或氧化；
3、可能是一個真空室太臟空氣；鍍膜機漏水4真空室；
4、次管道泄漏；或是有可能。的問題，首先是判斷，是吧？拆除嗎？將漏水？閥門的開啟？根據現象判斷，然后根據判斷發現問題，可以取得事半功倍的效果。
5、養成良好的衛生習慣。鍍膜機除塵設備及周邊設備，石油設備本身是相當大的?；覊m會產生靜電，對電子元器件的損壞。油能使導線管淬火裂紋，導致一些意想不到的問題。我們使用的真空設備，真空設備和其自身的特殊性。
真空鍍膜機，注意清潔衛生是一個真空，真空度差，通貨緊縮更。
