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        真空鍍膜機濺鍍的原理是什么蒸發鍍膜機的日常維護

        2020-08-02

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               濺鍍,一般指的是磁控濺鍍,歸于高速低溫濺鍍法.

              該技能請求真空度在1×10-3Torr擺布,即1.3×10-3Pa的真空狀況充入慵懶氣體氬氣(Ar),并在塑膠基材(陽極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓直流電,因為輝光放電(glow discharge)發生的電子激起慵懶氣體,發生等離子體,等離子體將金屬靶材的原子轟出,堆積在塑膠基材上.


        真空鍍膜機濺鍍的原理是什么
               以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子炮擊資料外表,使其濺射出進入氣相,可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數稱為濺射產額(Yield)產額越高濺射速度越快,以Cu,Au,Ag等最高,Ti,Mo,Ta,W等最低。一般在0.1-10原子/離子。離子能夠直流輝光放電(glow discharge)發生,在10-1—10 Pa真空度,在兩極間加高壓發生放電,正離子會炮擊負電之靶材而濺射也靶材,而鍍至被鍍物上。
               正常輝光放電(glow discharge)的電流密度與陰極物質與形狀、氣體品種壓力等有關。濺鍍時應盡也許保持其安穩。任何資料皆可濺射鍍膜,即便高熔點資料也簡單濺鍍,但對非導體靶材須以射頻(RF)或脈沖(pulse)濺射;且因導電性較差,濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達10W/cm2,非金屬<5W/cm2
        二極濺鍍射:靶材為陰極,被鍍工件及工件架為陽極,氣體(氬氣Ar)壓力約幾Pa或更高方可得較高鍍率。

        磁控濺射:在陰極靶外表構成一正交電磁場,在此區電子密度高,進而進步離子密度,使得濺鍍率進步(一個數量級),濺射速度可達0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳,是現在最有用的鍍膜技能之一。


        蒸發鍍膜機的日常維護
               1、例行保養生產設備中發現了一個不好的跡象,立即解決。鍍膜機不要認為這油定期更換,等待維修時間,轉子泵嚴重磨損可能。例如,軸承的一些卡工件轉架,更換軸承,然后等到它完全打破了,可真是個大問題,鍍膜機可能會導致轉架電機燒毀等。
              2、定期檢修,鍍膜機有人會問一個日常的維護也需要定期維護?事實上,每個設備都有它自己的生命,如2年油擴散泵的使用壽命,提前更換,鍍膜機在生產階段沒有問題。只要你把日常維護和定期檢修,對設備的使用壽命,在同一時間的延長,生產過程中的失效概率大大減少,提高了生產效率。, 3,不要盲目拆卸。鍍膜機問題的真空部分是困難的,而許多公司不泄漏檢測器,并將逐步找到。為什么不去真空可能有以下幾點: 1也許是泄漏率,也就是我們常說的泄漏; 2也許是真空機組的抽氣能力是不夠的,污染或氧化;
              3、可能是一個真空室太臟空氣;鍍膜機漏水4真空室;
              4、次管道泄漏;或是有可能。的問題,首先是判斷,是吧?拆除嗎?將漏水?閥門的開啟?根據現象判斷,然后根據判斷發現問題,可以取得事半功倍的效果。
              5、養成良好的衛生習慣。鍍膜機除塵設備及周邊設備,石油設備本身是相當大的?;覊m會產生靜電,對電子元器件的損壞。油能使導線管淬火裂紋,導致一些意想不到的問題。我們使用的真空設備,真空設備和其自身的特殊性。真空鍍膜機,注意清潔衛生是一個真空,真空度差,通貨緊縮更。
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