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        磁控濺射真空鍍膜機有哪些特點

        2020-08-06

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               磁控濺射真空鍍膜機廣泛應用于家電電器、鐘表、燈具、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。所謂“濺射”就是用荷能粒子(通常用氣體正離子)轟擊物體,從而引起物體表面原子從母體中逸出的現象,早在1982年Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場,磁場為曲線形,均勻電場和對數電場則分別用于平面靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下,加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞,若電子具有足夠的能量(約為30ev)時,則電離出Ar+并產生電子,電子飛向基片,Ar+在電場作用下,加速飛向陰極(濺射靶)并以高能量轟擊靶表面,使靶材發生濺射。


               磁控濺射真空鍍膜機磁控濺射方式一般分為直流濺射、射頻濺射、脈沖濺射、中頻濺射,這四種濺射方式,各有各的優勢!

              那么磁控濺射真空鍍膜機有以下幾大特點:
              1、膜厚可控性和重復性好,能夠可靠的鍍制欲定厚度的薄膜,并且,濺射鍍膜可以在較大的表面上獲得厚度均勻的膜層;
              2、薄膜與基片的附著力強,并且部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象,在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴散層;
              3、可以制備特殊材料的薄膜,可以制膜層可以使用不同的材料同時濺射制備混合膜、化合膜,還可濺射成TiN仿金膜;
              4、膜層純度高,濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。

              磁控濺射真空鍍膜機磁控濺射技術,是真空行業應用最廣泛的鍍膜技術,幾乎無能不知,只要聽到談到鍍膜技術,就會連想到磁控濺射技術


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