真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種，常用于對半導體、光伏、電子、精密光學等行業的納米級表面處理，其原理是通過電子槍發射高壓電子轟擊坩堝中的待鍍靶材，使其在高真空下蒸發并沉積在被鍍基片上以獲得鍍膜。那么真空鍍膜機如何開機操作呢？步驟如下：
1. 檢查真空鍍膜設備各操作控制開關是否在"關"位置。
2. 打開總電源開關，真空鍍膜設備送電。
3. 低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。
4. 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位，保證無任何雜質污物。
5. 落下鐘罩。
6. 啟動真空鍍膜設備抽真空機械泵。
7. 開復合真空計電源（復合真空計型號：Fzh-1A)。
8. 多弧離子鍍膜機當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。
9.真空鍍膜設備開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。
10.低壓閥拉出。立式單開門鍍膜機重復一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉至指向2區段測量位置。低真空表“2”內指針順時針移動，當指針移動至6.7Pa時，開高壓閥。
隨著時代的發展，
真空鍍膜機鍍膜技術一直影響著的人們的生活習慣，鍍膜技術也隨著生活水平的提高而不斷的改革，從原先的水鍍，到如今的真空鍍，雖然如今的真空鍍市場需求逐漸在增加，但是隨著時代的日新月異，鍍膜技術也要持續不斷的創新，緊跟時代步伐。
