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        pvd設備膜厚測量及監控方法

        2020-08-07

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               很多鍍膜加工廠家咨詢我們,膜層均勻性如何才能控制好,為什么鍍出的膜層有不良品,如何去把控這些環節。其實這些問題歸總接地還是pvd設備膜厚測量以及監控方面的問題,這兩方面問題,在鍍膜過程中是避免不了,也是必須要進行的,這樣才能確保能順利的鍍出優質的鍍膜產品。那么具體如何去真空鍍膜機膜后測量及監控呢?


        pvd鍍膜機


               最直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM),這種儀器可以直接驅動蒸發源,通過PID控制循環驅動擋板,保持蒸發速率。只要將儀器與系統控制軟件相連接,它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的精確度是有限的,部分原因是由于它監控的是被鍍膜的質量而不是其光學厚度。此外雖然QCM在較低溫度下非常穩定,但溫度較高時,它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中,很難阻止傳感器跌入這個敏感區域,從而對膜層造成重大誤差。

               光學監控是高精密鍍膜的的首選監控方式,這是因為它可以更精確地控制膜層厚度(如果運用得當)。精確度的改進源于很多因素,但最根本的原因是對光學厚度的監控。OPTIMALSWA-I-05單波長光學監控系統,是采用間接測控,結合汪博士開發的先進光學監控軟件,有效提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少終極誤差,提供了反饋或傳輸的選擇模式和大范圍的監測波長。特別適合于各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。
              
                pvd設備膜厚測量及監控監控環節必不可少,也是鍍膜加工廠家要高度重視的問題,以為一段鍍出不良產品,都會或多或少造成不少的損失,小則幾萬元,大則幾十萬,幾百元。
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