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        蒸發真空鍍膜機的原理及性能,您知多少?

        2020-06-19

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              蒸發真空鍍膜機是市場應用最廣泛的鍍膜機,日常生活中,大多數用品都有經過蒸發真空鍍膜機鍍膜的,如:汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、手機、反光杯、化妝品、玩具等行業,蒸發真空鍍膜機應用到各行業各,在市場上占據很大的份額。雖然蒸發真空鍍膜機在市場應用很廣泛,但是很多采購的廠商,對它卻不一定了解,下面匯成真空小編為大家詳細介紹一下蒸發真空鍍膜機的原理和性能,希望對大家有所幫助:


        蒸發真空鍍膜機


        蒸發鍍膜,通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面,稱為。這種方法最早由M.法拉第于1857年提出,現代已成為常用鍍膜技術之一。蒸發鍍膜與其他真空鍍膜方法相比,具有較高的沉積速率,可鍍制單質和不易熱分解的化合物膜。用作真空蒸發鍍的裝置稱為蒸發鍍膜機。 
               真空蒸發鍍膜裝置,是在真空室中利用電阻加熱,將金屬鍍料熔融、汽化,讓金屬分子沉積在基片上,獲得光滑的高反射率的金屬膜層,達到裝飾美化物品表面的目的。高真空蒸發鍍膜設備具有結構合理、抽速大、工作周期短、生產效率高、操作方便,能耗低、工作穩定,且膜層均勻、成膜質量好等優點。該設備主要廣泛應用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、手機、反光杯、化妝品、玩具等行業??杉庸さ牟牧习ǎ篈BS、PS、PP、PC、PVC、TPU、尼龍、玻璃、陶瓷、金屬等??慑兓谋砻鏍顟B:電鍍亮面、啞光面(半啞、全?。?、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴等;鍍制顏色有:金、銀、紅、藍、綠、紫、七彩等。
                蒸發真空鍍膜中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染,消除空間碰撞,提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。對于大面積鍍膜,常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時間(或決定于裝料量),并與源和基片的距離有關。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。排氣系統一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門組成。目前所用的蒸發源主要有電阻加熱、電子束加熱、感應加熱、電弧加熱和激光加熱等多種形式。蒸氣分子平均動能約為0.1~0.2電子伏。薄膜厚度可由數百埃至數微米。
                為了提高鍍層厚度的均勻性,真空室內的鍍件夾具有行星機構或自轉加公轉的運動裝置,如用行星運動方式,這種運動方式成膜均勻性好,臺階覆蓋性能良好,鍍件裝載量大,可以充分利用真空鍍膜室的有效空間,是目前經常采用的運動方式。蒸發鍍膜機主要由真空室、排氣系統、蒸發系統和電氣設備四部分組成。   
                匯成真空科技股份有限公司可根據用戶要求設計各種規格型號的蒸發真空鍍膜機。真空機組及電控系統也可根據用戶要求進行設計配置。
             
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