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        真空鍍膜設備鍍膜和光學真空鍍膜設備鍍膜原理上有什么區別?

        2020-08-14

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              大家都知道光學真空鍍膜設備鍍膜是跟光的折射和光控是有很大關系的,我們日常過程中經常聽到有人說玻璃透過率、折射率等等相關的話題,都是光關系,也跟光學真空鍍膜設備密不可分的。而真空鍍膜設備涉及的領域,卻是很廣泛,光學真空鍍膜設備也是真空鍍膜設備中的一種,如卷繞真空鍍膜設備、裝飾真空鍍膜設備、汽配真空鍍膜設備等等,都是屬于真空鍍膜設備。很多人好奇兩者鍍膜原理上有什么區別,今天匯成真空小編就為大家詳細介紹一下真空鍍膜設備和光學鍍膜設備鍍膜原理上的區別,希望能幫助到大家:

        光學真空鍍膜設備


               真空鍍膜設備真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法。

               光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜,一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率,以滿足不同的需要。為了消除光學零件表面的反射損失,提高成像質量,涂鍍一層或多層透明介質膜,稱為增透膜或減反射膜。

               隨著激光技術的發展,對膜層的反射率和透過率有不同的要求,促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的發展。為各種應用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強度分布,這是干涉鍍膜的基本原理。

               光學真空鍍膜設備和真空鍍膜設備,雖然都屬于真空領域。但是鍍膜原理上,還是有很大的區別,因為應用領域不一樣,想要的效果不一樣,鍍膜原理自然是有差別。

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