真空鍍膜機鍍制薄膜流程步驟多而復雜，鍍膜過程中，受很多參數影響，具體有哪些因素影響呢？影響真空鍍膜機鍍制薄膜的參數主要有：沉積速率、離子轟擊、真空度、基片材料、膜層材料、材料溫度、蒸發方式、后期的處理等。
1.真空度的影響：
真空度對薄膜性能的影響是非常大的，有些材料對真空度的要求高，有些材料對真空度的需求低，真空度越高受周圍氣體化學反應影響越小。真空腔承載真空環境必須保證剩余氣體在蒸汽分子從蒸發源到基片的過程中不產生碰撞，如果真空度低，蒸汽分子與氣體碰撞的幾率就高，蒸汽分子的動能減少可能無力與基片吸附，導致沉積的膜層牢固性差，真空室的設計非常重要，絕對不能產生漏氣。
2.沉積速率的影響：
沉積速率是以單位時間內被鍍制在基片表面上形成的膜層厚度的表示，單位為nm/s或者A/s，它是表示沉積快慢的參考數據。在同一真空度內，沉積速率不同薄膜的折射率也不同，對于沉積速率的提高可以一定程度上改善光學薄膜的性能和提高膜層的附著力。
3.離子轟擊的影響：
鍍膜前的離子轟擊一定程度上起到提高附著力和清潔基片的作用，拿蒸發鍍膜來說，離子轟擊一般可以增進化學反應，提高膜層的聚集密度，從而使氧化物膜的透過率增加、提高反射率、改善硬度和強度。
4.基片溫度的影響：
基片溫度主要影響著膜層的機構和晶體的生長，凝聚系數以及光學性能，基片的高溫度有助于提高折射率，還可以促進沉積的膜料分子與剩余氣體分子的化學反應。需要注意的是，不是每一種基片都能在高溫度下得到最佳的效果，有可能造成膜層的質變。
在真空
鍍膜機鍍制薄膜的過程中，薄膜性能的影響當然不單是受到上述工藝參數的影響，還會有許多細節的參數工藝影響到薄膜最終的性能和效果，在每一個環節做好才能更好的提高膜層附著力，這是鍍制工作中要注意的問題，鍍膜過程中，無論哪個環節出現了問題，都會影響鍍出優質產品的概率，因此每個環節都要格外關注，至關重要。
