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        關于真空鍍膜設備磁控濺射鍍膜系統相關知識

        2020-08-22

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               真空鍍膜設備磁控濺射鍍膜是一種鍍膜工藝,是被眾多人熟知和市面應用最廣泛的鍍膜工藝,應用到光學行業,我們一般稱之為光學磁控濺射鍍膜設備,應用到裝飾行業,一般我們稱之為裝飾真空鍍膜設備,應用到卷繞行業,我們一般稱之為卷繞真空鍍膜設備。磁控濺射鍍膜技術幾乎在每個行業都有應用到,也被眾多廠家所認可。

               1.真鍍膜設備磁控濺射原理:
               真空鍍膜設備磁控濺射法是一種較為常用的物理沉積法。磁控濺射是在真空室中,利用低壓氣體放電現象,使處于等離子狀態下的離子轟擊靶表面,并利用環狀磁場控制輝光放電,使濺射出的粒子沉積在基材上。磁控濺射可以 方便地鍍制高熔點物質的薄膜層,在很大面積上可以鍍制均勻的膜層。 

               2.真空鍍膜設備磁控濺射工藝流程:
               在鍍膜過程中,工藝的選擇對薄膜的性能具有重要的影響,根據磁控濺射技術原理,結合設備的實際應用,對膜層的要求厚度范圍為nm~μm數量級, 膜厚<550nm,如對光有干涉作用,屬于薄膜范疇,通常稱光學薄膜技術。

               3.真空鍍膜設備磁控濺射鍍膜的特點:濺射速率高,沉積速率高。濺射源的靶材具有極強的DIY選擇組合。
               真空鍍膜設備磁控濺射陰極源是一個較為理想的可控源,沉積的膜層厚度與濺射源的功率或放電電流有較好的線性相關性,所以有較好的可控性, 能較好地實現批量生產產品的一致性和重復性。濺射源可較理想地置于真空室內長時間穩定工作,獲得純正的膜層,提高真空鍍膜附著力確保膜層質量。

               4.真空鍍膜設備磁控濺射高真空的獲?。?br />        真空是一種不存在任何物質的空間狀態,是一種物理現象。在“真空” 中,聲音因為沒有介質而無法傳遞,但電磁波的傳遞卻不受真空的影響。 事實上,在真空技術里,真空是針對氣體而言,一般而言,高真空的獲取是通過油擴散泵,油擴散泵能比機械泵獲取更高的真空度。

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