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        磁控濺射真空鍍膜設備鍍膜原理介紹

        2020-09-03

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               真空鍍膜設備磁控濺射鍍膜技術已經廣泛應用到各行各業,受到眾多鍍膜廠家的青睞,但是大部門對磁控濺射真空鍍膜設備鍍膜原理認識還是很淺顯,下面匯成真空小編為大家整理一些關于磁控濺射鍍膜設備鍍膜原理介紹,希望能幫助到大家:


        磁控濺射真空鍍膜設備


               真空鍍膜設備使用磁控濺射鍍膜靶源,無論是非平衡式還是平衡式的磁控濺射鍍膜靶源,如果是靜止的磁鐵產生的磁場功對材的利用率會小于30%。一般的小型鍍膜設備,多采用磁場靜止靶材。鑒于此,可以通過更改磁場來增大對靶材的利用,旋轉磁場用在大型設備,貴重靶材上。

               磁控濺射技術總體來說都是利用電子與磁場的交互,產生大量離子撞擊靶材完成靶材的濺射,其中離不開惰性氣體的參與,在如今的磁控濺射設備中已經淘汰了線圈的磁鐵改為更高效率的永久磁鐵。

               一臺良好的磁控濺射鍍膜設備代價很高,靶源相當于鍍膜設備的心臟但往往容易被購買者忽視,很多朋友注重膜層厚度的測量、配套的真空泵好壞,MFC程序是否好用,別的方面在好如心臟不夠有力對整體的效果的影響是很大的,源的冷卻是保障源不被高溫所損壞的必須配置。

               磁控濺射可以有中頻、高頻和直流之分,中頻磁控濺射的原理很直流磁控濺射是一樣的,在整個系統磁控濺射鍍膜中,筒體與陰極和陽極的安排有關聯,其不同在于直流磁控濺射的陽極是筒體,而中頻磁控濺射成對出現。就中頻磁控濺射而言,如今使用比較多的是鍍制一些金屬的產品,這種設備一般制作的比較大型,可以放下非常多的產品一起鍍制,提高了效率以及膜層的致密性。

               利用不同的磁控濺射鍍膜技術可以得到不同的離子密度,改變磁場的設計可以改變離子的量以及分布,對于磁控濺射技術來說磁場是機密的。值得注意的是,在國際上脈沖反應的磁控濺射特別是歐洲的鍍膜公司開始大規模的應用。

               真空鍍膜設備的生產廠家都在努力提升膜層質量,包括鍍制速度、附著力、均勻度等;對于膜層附著力的問題也陸續的出現了很多新技術方法,包括雙極脈沖清洗、高壓清洗等,對于產品鍍膜前的拋光、清洗能提升效果。近年來過濾陰極弧技術發展的較為迅速也一定程度上改善了膜層出現不均勻的問題。
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