目前市面上使用最多的鍍膜技術分別的是蒸發鍍膜，多弧離子鍍膜，磁控濺射鍍膜等，蒸發鍍膜和磁控鍍膜使用更普及，下面匯成真空小編為大家講解一下真空鍍膜機蒸發鍍膜和磁控濺射鍍膜區別：
蒸發加熱目標表面成分自由基或離子形式被蒸發，并在襯底表面處理，成膜過程（散射-島結構的迷走神經結構層狀生長）形成薄膜。
蒸發鍍膜成分均勻性不易保證，與特定的因素可以控制，但由于有限的原理，對非單組分涂料，
蒸發鍍膜成分均勻性不好。 濺射可以簡單地理解為電子或高能激光轟擊目標的使用，使得表面成分的自由基或離子形式濺射，并沉積在襯底表面的成膜過程中，經驗，最終形成薄膜。真空鍍膜機的設備 濺射被分為許多類型，在濺射速率不同點和蒸發將成為一個主要的參數。
激光濺射PLD濺射涂層的成分均勻性，易于維護，和原子尺度的厚度均勻性較差（因為脈沖濺射），晶體取向（外）生長的控制也更一般的。
