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        DLC涂層真空鍍膜機的原理

        2020-10-19

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               DLC涂層真空鍍膜生產工藝流程一般包括DLC鍍膜前處理、DLC鍍膜和DLC鍍膜后處理3大步。

               DLC真空鍍膜機鍍膜前處理是獲得良好鍍層的前提,DLC鍍膜一般包括機械加工、酸洗、除油等步驟。DLC鍍膜機械加工是指用機械的方法,DLC鍍膜除去鍍件表面的毛刺、氧化物層和其他機械雜質,使鍍 件表面光潔平整,這樣可使DLC鍍膜與基體結合良好,防止毛刺的發生。DLC鍍膜酸洗的目的是為了除去鍍件表面氧化層或其他腐蝕物。DLC鍍膜除油的目的是清除基體表面上的油脂。


        DLC真空鍍膜機


              DLC鍍膜件經鍍前處理,即可進人DLC鍍膜工序。DLC鍍膜在進行DLC鍍膜時還必須注意DLC鍍膜液的配方,電流 密度的選擇以及溫度、等的調節。DLC鍍膜需要說明的是,單鹽電解液適用于形狀簡單、外觀 要求又不高的鍍層,絡鹽電解液分散能力高,DLC鍍膜時電流密度和效率低,DLC鍍膜主要適用于表面 形狀較復雜的鍍層。   

              當DLC涂層真空鍍膜機鍍膜真空室內的真空度為13Pa時,DLC鍍膜在陰陽兩電極間加上一定的電壓,氣體發生自激放電,DLC鍍膜從陰極發射出的原子或原子團可沉積在陽板或真空室的壁上。DLC鍍膜放電回路,DLC鍍膜是靠氣體放電產生的正離子向陰極運動和一次電子向陽極運動形成的。DLC鍍膜放電是靠正離子撞擊陰極產生二次電子。DLC鍍膜的主要缺點是沉積速率低,鍍件溫升。DLC鍍膜是一種異常陰極輝光低壓等離子體放電,DLC鍍膜源是利用磁控管原理(即磁場與電場正交,磁場方向與陰極表面平行)制成的源。

              DLC真空鍍膜機鍍膜源的放電是通過氣體電離產生的正離子在陰極電位吸引下,DLC鍍膜以幾百電子伏特的能量撞擊陰極從陽極獲得電子成為中性原子反射出來,與此同時出陰極靶原子,飛向鍍件堆集成膜,從陰極打出的二次電子,穿過克魯克斯暗區,DLC鍍膜受電場加速而獲得能量,DLC鍍膜進入等離子體成為一次電子,一次電子在正交的電磁場中,運動方向與電場、磁場垂直,呈圓滾線運動軌跡。DLC鍍膜與除了一次電子的運動軌跡不同外,其他放電機理基本相同。
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