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        真空鍍膜機鍍膜中常見的幾種離子源

        2020-06-23

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               真空鍍膜機鍍膜中常見有哪幾種離子源?很多人對這方面不是特別的了解,特別是行外人,更是了解的少之又少,下面匯成真空小編為大家介紹一下,希望能幫助到大家:

        離子真空鍍膜機


               真空鍍膜機離子源類型雖多,目的卻無非在線清洗,改善被鍍表面能量分布和調制增加反應氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結合強度,同時膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會改善。若是鍍工具耐磨層,一般厚度較大而對膜厚均勻性要求不高,可采用離子電流較大能級也較高的離子源,如霍爾離子源或陽極層離子源。
                陽極層離子源,與霍爾離子源原理近似。在一條環形(長方形或圓形)窄縫中施加強磁場,在陽極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。陽極層離子源可以做得很大很長,特別適合鍍大工件,如建筑玻璃。陽極層離子源離子電流也較大。但其離子流較發散,且能級分布太寬。一般適用于大型工件,玻璃,磨損,裝飾工件。但應用于高級光學鍍膜并不太多。
                考夫曼離子源是應用較早的離子源。屬于柵格式離子源。首先由陰極在離子源內腔產生等離子體,讓后由兩層或三層陽極柵格將離子從等離子腔體中抽取出來。這種離子源產生的離子方向性強,離子能量帶寬集中,可廣泛應用于真空鍍膜中。缺點是陰極(往往是鎢絲)在反應氣體中很快就燒掉了,另外就是離子流量有極限,對需要大離子流量的用戶可能不適和。
                霍爾離子源是陽極在一個強軸向磁場的協作下將工藝氣體等離子化。這個軸向磁場的強不平衡性將氣體離子分離并形成離子束。由于軸向磁場的作用太強,霍爾離子源離子束需要補充電子以中和離子流。常見的中和源就是鎢絲(陰極)。
                以上是真空鍍膜機鍍膜常見的三種離子源,也是目前市場運用最普及的,這三種離子源各有各的優勢和特點,運用的地方也是有差別,鍍的產品不一樣,使用的離子源類型也是不一樣的。
         
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