多弧離子真空鍍膜機是采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發金屬，蒸發物是從陰極弧光輝點放出的陰極物質的離子，從而在基材表面沉積成為薄膜的方法。
為了滿足鍍膜制和各種多層薄膜及復合化合物薄膜的要求，多功能多弧離子鍍膜已成為目前研究發展的方向和熱點。多弧離子鍍膜采用孿生靶的先進技術，克服直流濺射固有的靶中毒、打火等不良弊病，使鍍件的抗氧化耐蝕性能又有所提高和改善。
多弧離子鍍膜的中心安裝柱狀多弧靶，靶材為鈦或鋯。它不但能保持多弧技術離化率高、沉積速率高的特點，還能有效地降低小平面多弧靶沉積過程中很難避免的“液滴”的缺陷，從而可以制備出低孔隙率的金屬薄膜或化合特薄膜；在周邊安裝了孿生平面磁控靶，靶材為鋁或硅；中外，在周邊安裝多個小平面多弧蒸發源，靶材為鉻或鎳，可以鍍制多層金屬膜和多層復合膜。
真空鍍膜機復合式離子鍍膜設備由于具有多種不同形式鍍膜裝置及不同材質的蒸發源及發射靶，它們既可以獨立地分別工作又可以同時工作，既能制備純金屬膜又能制備金屬化合物膜或復合材料膜；既能制備單層薄膜又能制備多層復合膜，用途極其廣泛。
