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        真空鍍膜機之蒸發系統

        2020-11-23

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               真空鍍膜機蒸發系統主要指成膜裝置部分,鍍膜機的成膜裝置很多,有電阻加熱、電子槍蒸發、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式,鄙人就電阻加熱和電子槍蒸發兩種方式作介紹,因為此兩種方式我應用的比較多。 

               電子槍蒸發是到目前為止應用最多的一種蒸發方式,它可以蒸發任何一種鍍膜材料,它的工作方式是:將鍍膜材料放在坩堝里面,將蒸發源制作成燈絲形狀,采用一專門的控制柜,對燈絲加一強電流,高電壓,由于燈絲的材料是鎢,所以它會發熱,到最后會發射電子,再采用一定的磁場將其聚集成一定形狀,并牽引到坩堝上,這樣就形成了一股電子束,由于電子束溫度非常高,可以熔化任何鍍膜藥材,當鍍膜藥材被電子束熔化后(有些材料是直接升華),藥材的分子(原子或者離子)在真空中成直線運動,然后遇到基板,就凝結下來,經過這種方式生長,形成薄膜!最常用的有將電子束的偏轉角制作成270度,、或者運行軌跡為e型的e行電子槍或者電子束偏轉角180度,運行軌跡為c型的c型電子槍兩種。 
               電子束蒸發的最大優點在于:電子束的光斑可以隨意調整,可以一槍多用,燈絲可以隱藏,避免污染,可以蒸發任意鍍膜材料,維修方便,蒸發速度可以隨意控制,材料分解小,膜密度高。機械強度好。 
               濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面,通過動能傳輸,令靶材的分子(原子)有足夠的能量從靶材表面逸出,在產品表面凝聚形成薄膜。 
               用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強,薄膜的純度高,可以同時濺射多種不同成分的材料,但是對靶材的要求高,不能象電子槍一樣節約資源。 
               目前運用最多的有磁控濺射,磁控濺射是指平行于陰極表面施加強電場,將電子約束在陰極靶材表面附近,提高電離效率。它是操作最簡單的一種,所以運用非常廣。 
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