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        磁控濺射鍍膜機鍍膜均勻性是一項重要指標

        2020-06-23

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               真空行業的從業者都知道,磁控濺射鍍膜機鍍膜均勻性是一項重要的指標,均勻性好的鍍膜機,鍍出優良的膜層概率也就高很多,同時也降低了成本,這是每個企業老板所期望的。因此,客戶在采購設備的時候,格外的關注鍍膜機均勻性問題,這個問題也是談判桌子上熱門的話題。那么磁控濺射鍍膜機均勻性問題,會受哪些因素影響呢,及如何解決不均性問題呢?下面匯成真空小編詳細為大家介紹一下:

         磁控濺射鍍膜機


               磁控濺射薄膜均勻性一項重要指標,因此有必要研究影響磁控濺射均勻性的影響因素,以便更好的實現磁控濺射均勻鍍膜。簡單的說磁控濺射就是在正交的電磁場中,閉合的磁場束縛電子圍繞靶面做螺旋運動,在運動過程中不斷撞擊工作氣體氬氣電離出大量的氬離子,氬離子在電場作用下加速轟擊靶材,濺射出靶原子離子(或分子)沉積在基片上形成薄膜。 
                所以要實現均勻的鍍膜,就需要均勻的濺射出靶原子離子(或分子),這就要求轟擊靶材的氬離子是均勻轟擊的。由于氬離子是在電場作用下加速轟擊靶材,所以要求電場均勻。而氬離子來源于閉合的磁場束縛的電子在運動中不斷撞擊形成,這就要求磁場均勻和氬氣分布均勻。但是實際的磁控濺射裝置中,這些因素都是很難完全絕對的均勻,這就有必要研究他們不均勻對成膜均勻性的影響。實際上磁場的均勻性和工作氣體的均勻性是影響成膜均勻性的最主要因素。磁場大的位置膜厚,反之膜薄,磁場方向也是影響均勻性的重要因素。氣壓方面,在一定氣壓條件下,氣壓大的位置膜厚,反之膜薄。 
                磁控濺射鍍膜機會有不均勻性的問題發生,當出現不均勻性問題的時候,要盡量保證磁場的均勻性和方向一致性,形成一個相對均勻的空間磁場。其次,要盡量保證氣壓上下的均勻性,真空腔體設計時,要考慮真空泵的安裝位置,和工藝氣體進氣方式以及腔體內工藝氣管的布局。第三,由于磁場和氣壓都不可能絕對理想,那么就可以通過氣壓的不均勻來補償磁場不均勻,讓最終薄膜均勻一致。第四,靶基距也是影響均勻性的重要因素。 
                看完這篇文章,對磁控濺射鍍膜機均勻性問題的了解是不是清晰了很多,后續匯成真空小編會持續給大家帶來真空行業相關的知識,提供大家參考和學習,敬請關注!
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