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        真空鍍膜機TiO2薄膜光電導與光催化介紹

        2020-11-26

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              真空鍍膜機TiO2薄膜光電導與光催化,采用溶膠-凝膠法在石英基板上旋涂制備不同系列的TiO2薄膜樣品( 摻F 濃度、保溫時間、薄膜厚度、晶型) ,并用X 射線衍射等分析測試手段對樣品的結構等性能進行表征。通過對薄膜樣品光降解亞甲藍溶液的實驗測定來表征樣品的光催化性能,并測定其光電導值。研究結果發現光電導值越大的樣品對應的光催化性能也越好,說明了光電導和光催化性能存在內在聯系,為用物理法表征光催化提供了實驗依據。經過分析得出,光催化性和光電導率同時存在最佳摻F 濃度( 2%) 、最佳薄膜厚度( 331. 5 nm) ,晶粒尺寸越大越有利于光催化性和光電導率的提高,銳鈦礦-金紅石混晶優于單一的銳鈦礦相。


        真空鍍膜機


               自1972 年Fujishima發現TiO2半導體單晶電極上的光解水現象以來,人們就開始了多相半導體光催化的研究。光催化降解屬于復雜的光化學反應,影響降解特性的因素很多,諸如光照波長、光強、溫度、PH 等,實驗也較為繁瑣,至今對于TiO2的光催化活性評定尚未有統一、廣泛適用的標準。

               近年來研究人員開始嘗試表面光電壓、亮暗電導比值、亮態和暗態電導率等多種物理手段來研究表征光催化性能,希望獲得更為簡單的光催化性能評定手段。TiO2是高阻半導體,暗電導率很低,往往通過測量微電流的方法來獲得暗電阻,微電流的測量容易受到儀表的測量精度及外界噪聲影響而降低測量結果的可信度; 采取亮暗電導比值法受暗電導率測量誤差的影響。
               目前TiO2薄膜的制備方法包括溶膠-凝膠法、原子層沉積法、氣相沉積法、濺射法和低溫等離子射流法等,其中溶膠-凝膠法由于其工藝簡單,成本低廉已被廣泛地應用。本文采取光電導法表征光催化,采用溶膠-凝膠法在石英襯底上制備不同條件的TiO2薄膜,以亞甲基藍為降解對象,研究薄膜的光催化性能,并測定其光電導; 為了準確地比較各樣品光催化性能的優劣,實驗過程中盡可能將光強、溫度等條件保持一致,以期將光降解的外界影響減至最小。本實驗用于光催化研究的TiO2薄膜樣品主要有摻雜濃度、保溫時間、薄膜厚度、晶型等區別。從不同樣品的表征測試中分析各種變化條件對光催化、光電導的影響,以更全面地了解光催化與光電導的關系。
                真空鍍膜機TiO2薄膜光電導與光催化介紹起來,比較偏理論化,這這方面研究不深的人,讀起來可能感覺比較的吃力和難以理解,但是沒關系,多讀多看,慢慢就會好起來。
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