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        真空鍍膜機金屬件裝飾膜PVD鍍制工藝

        2020-12-10

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               真空鍍膜機金屬件PVD裝飾膜鍍制工藝,主要為在裝飾產品設計。例如大型板材管材、家具裝飾品上鍍保護膜,真空鍍膜設備鍍膜后的產品能夠展現出雍容華貴、光彩奪目等各種各樣的美麗效果,并且膜層耐磨損不褪色。


        真空鍍膜機


               1.裝飾件材料(底材)
               (1)金屬。不銹鋼、鋼基合金、鋅基合金等。
               (2)玻璃、陶瓷。
               (3)塑料。ABS、PVC、PC、SHEET、尼龍、水晶等。
               (4)柔性材料。滌綸膜、PC、紙張、布、泡沫塑料、鋼帶等。
               2.裝飾膜種類
               (1)金屬基材裝飾膜層:TiN、ZrN、TiC、CrNx、TiCN、CrCN、Ti02、Al等。
               (2)玻璃、陶瓷裝飾膜層:TiO2、Cr2O3、MgF2、ZnS等。
               (3)塑料基材裝飾膜層:AI、Cu、Ni、Si02、Ti02、ITO、MgF2。
               (4)柔性材料裝飾膜層:Al、lTO、Ti02、ZnS等。
              真空鍍膜機用磁控濺射離子鍍技術為黃銅電鍍亮鉻的衛生潔具鍍制ZrN膜。真空鍍膜設備采用基材為鋯的非平衡磁控濺射靶和中頻電源,以及脈沖偏壓電源。
               (1)抽真空
               5 X 10-3~6.6 x 10-13Pa本底真空。真空鍍膜設備加熱溫度應在真空室器壁放氣后又回升到100~150℃。
               (2)轟擊清洗
               真空度:通人氬氣真空度保持在2~3Pa。轟擊電壓:800~1000V,脈沖占空比20%。轟擊時間:10min。
               (3)鍍膜
               ①沉積鋯底層
               真空度:通入氬氣,真空度保持在s x l0-1Pa。靶電壓:400—550V,靶功率15 N 30W/Crrr2。脈沖偏壓:450~500V,占空比20 %。鍍膜時間:5~10min。
               ②鍍ZrN膜
               真空度:通入氮氣,真空度保持在(3~5) x 10-1Pa。靶電壓:400~550V,靶電流隨靶的面積增大而加大。脈沖偏壓:150~200V,占空比80 %。鍍膜時間:20~30min。
               由于真空鍍膜機磁控濺射技術中金屬離化率低,不容易進行反應沉積,獲得化合物膜層的工藝范圍比較窄。真空鍍膜機可采用氣體離子源將反應氣體離化,擴大反應沉積的工藝范圍。也可以采用柱狀弧源產生的弧等離子體作為離化源,柱狀弧源還是輔助鍍膜源。
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