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        真空鍍膜機蒸發鍍膜的工作原理

        2021-01-06

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               真空鍍膜機真空蒸發鍍膜(簡稱蒸鍍)是PVD技術中發展最早、應用較為廣泛的鍍膜技術。盡管后來發展起來的濺射鍍和離子鍍在許多方面要比蒸鍍優越,但真空蒸發技術仍有許多優點,如設備與工藝相對比較簡單,即可鍍制非常純凈的膜層,又可制備具有特定結構和性質的膜層等,仍然是當今非常重要的鍍膜技術。近年來,由于電子轟擊蒸發,高頻感應蒸發及激光蒸發等技術在蒸發鍍膜技術中的廣泛應用,使這一技術更趨完善。


        真空鍍膜機


               將膜材置于真空鍍膜室內,通過蒸發源加熱使其蒸發,當蒸發分子的平均自由程大于真空鍍膜室的線性尺寸時,蒸汽的原子和分子從蒸發源表面逸出后,很少受到其他分子或原子的沖擊阻礙,可直接到達被鍍的基片表面,由于基片溫度較低,便凝結其上而成膜,為了提高蒸發分子與基片的附著力,對基片進行適當的加熱是必要的。為使蒸發鍍膜順利進行,應具備蒸發過程中的真空條件和制膜過程中的蒸發條件。
               蒸發過程中的真空條件:真空鍍膜室內蒸汽分子的平均自由程大于蒸發源與基片的距離(稱做蒸距)時,就會獲得充分的真空條件。為此,增加殘余氣體的平均自由程,借以減少蒸汽分子與殘余氣體分子的碰撞概率,把真空鍍膜室抽成高真空是非常必要的。
               真空鍍膜過程中對真空度的要求并非是越高越好,因為在真空鍍膜室內真空度超越10-6Pa時,必須對真空系統烘烤去氣才能達到。由于烘烤去氣會造成基片的污染,因此在不經過烘烤去氣時即可得到10-5Pa的高真空下制膜,其膜的質量不一定比超高真空下所制備的膜的質量差,這一點是值得注意的。因此,在真空蒸發鍍膜機中,鍍膜室所選用的真空度一般均應高于10-2Pa,低于10-5Pa。
               真空蒸發鍍膜機是最原始的真空鍍膜機,應用也是最廣泛的,市場占比率也是最高,當然隨著技術不斷的創新和發展,新技術不斷的涌出,蒸發鍍膜技術和設備成本自然是占比相對來說比較偏低。
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