真空鍍膜機電子束加熱原理及特點：真空鍍膜機電子束加熱蒸發源是利用熱陰極發射電子在電場作用下，成為高能量密度的電子束，直接轟擊到鍍料上。電子束的動能轉化為熱能，使被料加熱氣化，完成蒸發鍍膜。
真空鍍膜機電子束加熱蒸發的優點：
①鍍膜機電子束加熱比電阻加熱具有更高的能量密度，可以蒸發高熔點材料，如W、Mo，Al2O3等，并可得到較高蒸發速率；
②被蒸發材料置于水冷銅坩堝內，可避免坩堝材料污染，可制備高純薄膜；
③電子束蒸發粒子動能大，有利于獲得致密、結合力好的膜層。
真空鍍膜機電子束加熱的缺點：
①結構較復雜，設備價格較昂貴；
②若
真空鍍膜機蒸發源附近的蒸氣密度高，真空鍍膜設備電子束流和蒸氣粒子之間會發生相互作用，電子的能量將散失和軌道偏移。同時引起蒸氣和殘余氣體的激發和電離，會影響膜層質量。
