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        真空鍍膜機電子束加熱原理及特點

        2021-01-07

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               真空鍍膜機電子束加熱原理及特點:真空鍍膜機電子束加熱蒸發源是利用熱陰極發射電子在電場作用下,成為高能量密度的電子束,直接轟擊到鍍料上。電子束的動能轉化為熱能,使被料加熱氣化,完成蒸發鍍膜。


        真空鍍膜機

               真空鍍膜機電子束加熱蒸發的優點:
               ①鍍膜機電子束加熱比電阻加熱具有更高的能量密度,可以蒸發高熔點材料,如W、Mo,Al2O3等,并可得到較高蒸發速率;
               ②被蒸發材料置于水冷銅坩堝內,可避免坩堝材料污染,可制備高純薄膜;
               ③電子束蒸發粒子動能大,有利于獲得致密、結合力好的膜層。
               真空鍍膜機電子束加熱的缺點:
               ①結構較復雜,設備價格較昂貴;
               ②若真空鍍膜機蒸發源附近的蒸氣密度高,真空鍍膜設備電子束流和蒸氣粒子之間會發生相互作用,電子的能量將散失和軌道偏移。同時引起蒸氣和殘余氣體的激發和電離,會影響膜層質量。
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