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        多弧離子真空鍍膜機涂層的特點

        2021-02-09

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              多弧離子真空鍍膜機與蒸發真空鍍膜機、濺射真空鍍膜機相比,最大的特點是荷能離子一邊轟擊基體與膜層,一邊進行沉積。荷能離子的轟擊作用所產生一系列的效應,主要有如下幾點:



               多弧離子真空鍍膜機鍍膜膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產生的濺射作用,使基體受到清洗,激活及加熱,既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層,也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強擴散效應。多弧離子真空鍍膜設備鍍膜既提高了基體表面層組織結晶性能,也提供了合金相形成的條件。
               多弧離子真空鍍膜機由于產生良好的繞射性。多弧離子真空鍍膜設備鍍膜在壓力較高的情況下(≧1Pa)被電離的蒸汽的離子或分子在到達基體前的路程上將會遇到氣體分子的多次碰撞。多弧離子真空鍍膜機鍍膜還會在電廠的作用下沉積在具有負電壓基體表面的任意位置上。因此,這一點蒸發鍍是無法達到的。
               多弧離子真空鍍膜機鍍膜鍍層質量高。由于離子轟擊可提高膜的致密度,改善膜的組織結構,使得膜層的均勻度好,多弧離子真空鍍膜設備鍍膜鍍層組織致密,針孔和氣泡少。
               多弧離子真空鍍膜機鍍膜沉積速率高,成膜速度快,可制備30μm的厚膜。多弧離子真空鍍膜設備鍍膜所適用的基體材料與膜層材料均比較廣泛。適用于在金屬或非金屬表面上鍍制金屬、化合物、非金屬材料的膜層。如在鋼鐵、有色金屬、石英、陶瓷、塑料等各種材料表面鍍膜。
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