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        真空鍍膜機磁控濺射鍍膜的特征

        2021-02-19

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                真空鍍膜機磁控鍍膜技術是市面上最常用的一種鍍膜技術,應用非常的廣泛,也被各行業鍍膜加工廠家青睞,一般鍍膜設備生產廠家大多數都會按設備的應用行業來區分設備類型,比如最常見的有裝飾行業,功能性涂層,光學,連續線等。那么這些機器采用的是磁控濺射鍍膜技術的話,一般會稱作為光學磁控濺射鍍膜設備,裝飾磁控濺射鍍膜設備,功能性涂層磁控濺射鍍膜設備,連續線磁控濺射鍍膜設備??梢姶趴貫R射鍍膜技術,在日常使用中的廣泛性,下面匯成真空小編為大家詳細介紹一下真空鍍膜機磁控濺射鍍膜的特征,希望能幫助到大家:


        真空鍍膜機


               真空鍍膜機磁控濺射鍍膜是一種先進的表面裝飾鍍膜技術,在現今得到快速發展,先后出現了二極、三極、磁控和射頻磁控濺射鍍膜技術等。
               真空鍍膜機磁控濺射鍍膜目的在于降低沉積溫度,減小接口脆性相,降低反應氣體用量,實現自動控制,提高鍍層質量。真空鍍膜機磁控濺射鍍膜還利用其易于調控化學成分的特點在鍍層類型和結構上也取得了新的發展。
               真空鍍膜機、真空鍍膜設備磁控濺射鍍膜技術它的性能比較單一,鍍層TiC或者TIN有顯著的提高。1978年又在上述鍍層的基礎上增加了化學穩定性更好的Al2O3鍍層,厚度可達10mp,仍具有良好的結合力。目前磁控濺射鍍膜能夠制備的硬質膜種類達幾十種,并能制備三層以上的多層膜和梯度膜。
               真空鍍膜機磁控濺射鍍膜技術的主要特征便是濺射沉積技術進一步完善并擴大應用范圍,鍍膜設備磁控濺射鍍膜技術的產生,基礎研究開始起步并日益受到重視。
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