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        怎么保證磁控濺射真空鍍膜機鍍膜質量及均勻性

        2020-07-01

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              磁控濺射真空鍍膜機主要在較高真空度下進行的鍍膜。磁控濺射真空鍍膜機若有灰塵,將會影響真空鍍膜的效果和質量。磁控濺射真空鍍膜機運作也是通過真空狀態下正交磁場是電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材,靶材離子沉積于工件表面成膜。真空狀態就需要抽氣系統來進行控制,如果控制不好,就會導致鍍膜均勻性問題。


        磁控濺射真空鍍膜機



        磁控濺射真空鍍膜機鍍膜質量問題應該注意一下幾點:
         
        (1)被鍍膜材料表面肯定是有灰塵的,在盡量減小材料表面灰塵的前提下。
        (2)真空鍍膜設備使用一段時間后,必須要對設備進行清潔維護;
        (3)規范操作人員及操作要求,包括穿戴專業的服裝、手套、腳套等;
        (4)嚴格處理襯底材料,做到清潔干凈,合乎工藝要求;
        (5)原材料符合必要的純度要求;
        (6)保證設施設備及操作環境清潔。如材料、樣品放置地環境要求,環境溫度濕度要求等;
        (7)降低真空鍍膜設備室內空氣流動性低、盡量減小室外灰塵侵入。
         
        磁控濺射真空鍍膜機鍍膜怎么保證鍍膜均勻性: 
            (1)真空狀態就需要抽氣系統來進行控制,每個抽氣口都要同時開動并力度一致,這樣就能控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內的壓強就不能均勻了,壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制,太短會造成真空度不夠,但太長又浪費資源,不過有真空計的存在,要控制好還是不成問題的。
            (2)磁場是正交運作的,但你要將磁場強度做到百分之一百均勻是不可能的,一般磁場強的地方,成膜厚度就大,相反就小,所以會造成膜層厚度的不一致,不過在生產過程中,由于磁場的不均勻導致的膜層不均勻的情況卻不是常見的,原來磁場強弱雖不好進行控制,但同時工件也在同時運轉,且是靶材原子多次沉積此案結束鍍膜工序,在一段時間內雖然某些部位厚,某些部位薄,但另一個時間內,磁場強的作用下在原來薄的部位沉積上厚的,在厚的部位沉積上薄的,如此多次,整個膜層最終成膜后,均勻性還是比較不錯的。
            (3)氬氣的送氣均勻性也會對膜層均勻性產生影響,其原理實際上和真空度差不多,因為氬氣的進入,真空室內壓強會產生變化,均勻的壓強大小可以控制成磁控濺射真空鍍膜機膜厚度的均勻性。
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