磁控濺射技術在市場中應用非常的廣泛，各行各業物件膜層鍍膜，大多數都是采用磁控濺射技術，磁控濺射技術在真空行業也是非常的受歡迎和追捧。磁控濺射是屬于物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種,磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射技術雖然很受追捧，但是在操作它時，也會遇到很多的問題，那么磁控濺射真空鍍膜機在日常操作中，有哪些常見的故障呢，下面幫大家列舉出來：
二、輝光不穩
（1）電壓電流不穩，檢查電源；
（2）真空室壓力不穩，檢查氬氣進氣量及真空系統；
（3）電纜故障，檢查電纜是否連接良好。
三、成膜質量差
（1）基片表面清潔度差，清潔基片表面；
（2）真空室清潔度差，清潔真空室；
（3）基片溫度過大或過小，檢查溫控系統，校準熱電偶；
（4）真空室壓力過大，檢查真空系統；
（5）濺射功率設置不當，檢查直流電源，設置何事的設定功率。
四、濺射速率低
（1）氬氣進氣量過大或過小，觀察輝光顏色可以判定氬氣是過大還是過小，據此調整氬氣進氣量；檢修流量計；
（2）靶材過熱，檢查冷卻水流量；
（3）檢查永磁體是否消磁。
當
磁控濺射真空鍍膜機出現異常的時候，大多數都是以上四條的原因，大家可以提前掌握，后期遇到問題的時候，可以根據這幾條思路去排查。
