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        磁控濺射真空鍍膜機鍍膜常見故障及解決辦法

        2020-07-08

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              磁控濺射技術在市場中應用非常的廣泛,各行各業物件膜層鍍膜,大多數都是采用磁控濺射技術,磁控濺射技術在真空行業也是非常的受歡迎和追捧。磁控濺射是屬于物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種,磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射技術雖然很受追捧,但是在操作它時,也會遇到很多的問題,那么磁控濺射真空鍍膜機在日常操作中,有哪些常見的故障呢,下面幫大家列舉出來:




        二、輝光不穩 
              (1)電壓電流不穩,檢查電源; 
              (2)真空室壓力不穩,檢查氬氣進氣量及真空系統; 
              (3)電纜故障,檢查電纜是否連接良好。
         
        三、成膜質量差 
              (1)基片表面清潔度差,清潔基片表面; 
              (2)真空室清潔度差,清潔真空室; 
              (3)基片溫度過大或過小,檢查溫控系統,校準熱電偶; 
              (4)真空室壓力過大,檢查真空系統; 
              (5)濺射功率設置不當,檢查直流電源,設置何事的設定功率。
              
        四、濺射速率低 
              (1)氬氣進氣量過大或過小,觀察輝光顏色可以判定氬氣是過大還是過小,據此調整氬氣進氣量;檢修流量計; 
              (2)靶材過熱,檢查冷卻水流量; 
              (3)檢查永磁體是否消磁。
          
               當磁控濺射真空鍍膜機出現異常的時候,大多數都是以上四條的原因,大家可以提前掌握,后期遇到問題的時候,可以根據這幾條思路去排查。
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