咸宁学生服务

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        光學設備

        Product Center
        真空應用解決方案提供商
        半導體級濺射光學鍍膜機

        設備模塊化設計,可結合等離子清洗(Plasma-clean)單元,磁控濺射(SPT)單元,等離子增強化學反應(PECVD)單元,原子層沉積(ALD)單元,以及等離子化學反應刻蝕(RIE)單元,拓展成簇式微納加工中心,涵蓋半導體微納結構加工的基材清洗、薄膜沉積(含超薄薄膜)和圖案化刻蝕整套工序。

        高精密磁控濺射光學鍍膜機

        該設備具備RF-ICP輔助磁控濺射后氧化模式,具有高沉積速率且光學性能匹配的特點。適用于車載蓋板玻璃和3C產品前蓋玻璃沉積AR膜,其中AR膜可為普通SiO2+Nb2O5膜系,也可為硬質SiO2+Si3N4膜系。同時也適用于3C產品后蓋顏色膜(含漸變色膜)、NCVM膜的加工。

        雙腔磁控濺射光學鍍膜機

        濺射沉積系統在側壁上裝有多個圓柱形靶材,以提高沉積速率和多層涂層,該系統配備有直流脈沖或射頻功率圓形陰極,垂直安裝的基板和圓柱形陰極可最大程度地減少涂層過程中的顆粒污染,通過多個腔體的靈活組合,大大提高生產效率和膜層性能。

        磁控濺射光學鍍膜機

        旋轉陰極裝置與行內普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高??煽椭苹幕骞ぜ芙Y構定制,給客戶產品擺放達到最大的利用空間。全自動一體的提拉升降的轉架裝置,大幅度減少機器開關門時間,大大提高了生產效率與工藝穩定性。匯成專利離子源具有工作范圍廣能量均衡,高離化率,超穩定工作效率,低耗能等特點。

        高精密電子束蒸發鍍膜機

        在玻璃/PC/PMMA基片上形成高精度光學多層薄膜的精密真空鍍膜機。將滿足客戶需求的多種元件組合在一起,可以形成品質更加優良的薄膜?;瑐慵懿捎弥行男D方式(公轉),減少產生振動和顆粒,使基片能夠穩定旋轉。采用坩堝上沒有極片的電子束加熱方式作為蒸發源,可以穩定地形成多層膜。

        大型電子束蒸發光學鍍膜機

        配備電子槍、穴型、腰型或環形坩堝,阻抗式蒸發源;配置光學膜厚控制儀或石英晶體膜厚控制儀,可實現成膜速度和鍍膜過程的自動控制;可選射頻RF/考夫曼型/霍爾型離子源;可制備AR、UV/IR截止濾光片、AF、硬質膜、裝飾膜、ITO膜 、帶通濾光片、HR膜等。

        阻抗蒸發AS光學鍍膜機

        AF/AS鍍膜,即防污膜(AS),防指紋膜(AF膜),主要是通過真空鍍膜的技術將有機氟化物材料沉積到基材上,使基材表面具有防水,防油,防刮,防指紋,防污染等功能。廣泛應用于數碼產品,手表,五金等玻璃,金屬,塑料,陶瓷材質的面板,零件表面,及其裝飾和功能薄膜上加鍍AF,AS涂層,提高表面硬度,光滑度,耐磨性,耐化學性和易清潔性。

        離子源

        離子輔助蒸度高性能射頻(RF)離子源,最適于在高速率下的離子束輔助沉積(IAD)及清洗。

        光學膜厚監控儀

        獨特的頻率測量系統,提供穩定、高分辨率的速率和厚度測量,賦予監控過程卓越的可重復性。

        您想要了解更多嗎?

        電話:13316689188

        郵箱:office@hcvac.com

        咸宁学生服务
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