高精密
磁控濺射
光學鍍膜機
具備RF-ICP輔助磁控濺射后氧化模式，具有高沉積速率且光學性能匹配的特點。適用于車載蓋板玻璃和3C產品前蓋玻璃沉積AR膜，其中AR膜可為普通SiO2+Nb2O5膜系，也可為硬質SiO2+Si3N4膜系。同時也適用于3C產品后蓋顏色膜（含漸變色膜）、NCVM膜的加工。
旋轉陰極裝置與行內普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高；可客制化的基板工件架結構定制，給客戶產品擺放達到最大的利用空間；全自動一體的提拉升降的轉架裝置，大幅度減少機器開關門時間，大大提高了生產效率與工藝穩定性；匯成專利離子源具有工作范圍廣能量均衡，高離化率，超穩定工作效率，低耗能等特點。
可利用時間精準控制薄膜厚度，達到設計工藝要求，節省晶控，光控環節，為客戶省去大量的膜厚儀耗材；可生產高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能；低溫成膜，可應對各種用途；自動調節氣體流量專利裝置，保持穩定的靶電壓，保證成膜品質；可選“校正板外部調節機構”。
基于PC的有效自動系統控制，用于涂層過程
優異的均勻性和最高的生產良率
精確監控膜厚
出色的濺鍍技術和很強的量產能力
匯成自主研發離子源
易于操作和維護
| 規格 | |
| 型號 | HCMS-1650T |
| 鍍膜區域 | Φ1650x H850mm |
| 結構 | 多腔室 |
| 性能 | |
| 轉速 | 10~100RPM（可變） |
| 進出料室抽速 | 大氣壓至10Pa≤5min |
| 工藝室抽速 | 3.0×10-3Pa≤15min |
| 極限真空度 | 8.0×10-5Pa (成膜室) |
| 濺射靶材 | Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5 ... |
| 主要配置 | |
| 夾具系統 | 中心旋轉公轉夾具桶 / 掛板機械結構傳動 |
| 掛板 | （掛板寬度200～300 ) × H850mm |
| 掛板尺寸可客制化調整 | |
| 排氣系統 | 低真空泵組 + 高真空泵組 + 低溫泵 |
| 真空控制系統 | 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計 |
| 鍍膜系統 | DC或MF磁控濺射源+ 等離子體源 + 線性蒸發源 |
| 充氣系統 | MFC或APC自動壓強控制儀 |
| 控制系統 | PC+PLC |
| 應用 | |
| 光學薄膜應用 | UV/IR截止濾光片、帶通濾光片、RGB濾光片、AR、硬質AR膜、硬質膜、HR膜、AS/AF等，兼容2D/3D基材 |
| 適用波長 | 300nm~1300nm |
| 注：可客制化（數據僅供參考） | |
| 規格 | |
| 型號 | HCMS-2550T |
| 鍍膜區域 | Φ2550x H1400mm |
| 結構 | 多腔室 |
| 性能 | |
| 轉速 | 10~100RPM（可變） |
| 進出料室抽速 | 大氣壓至10Pa≤5min |
| 工藝室抽速 | 3.0×10-3Pa≤15min |
| 極限真空度 | 8.0×10-5Pa (成膜室) |
| 濺射靶材 | Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5 ... |
| 主要配置 | |
| 夾具系統 | 中心旋轉公轉夾具桶 / 掛板機械結構傳動 |
| 掛板 | （掛板寬度200～500 ) × H1400mm |
| 掛板尺寸可客制化調整 | |
| 排氣系統 | 低真空泵組 + 高真空泵組 + 低溫泵 |
| 真空控制系統 | 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計 |
| 鍍膜系統 | DC或MF磁控濺射源+ 等離子體源 + 線性蒸發源 |
| 充氣系統 | MFC或APC自動壓強控制儀 |
| 控制系統 | PC+PLC |
| 應用 | |
| 光學薄膜應用 | UV/IR截止濾光片、帶通濾光片、RGB濾光片、AR、硬質AR膜、硬質膜、HR膜、AS/AF等，兼容2D/3D基材 |
| 適用波長 | 300nm~1300nm |
| 注：可客制化（數據僅供參考） | |
HCVAC-PVD
