咸宁学生服务

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        HCAR系列

        磁控濺射

        光學鍍膜機

        Magnetron sputtering optical coating machine
        真空應用解決方案提供商
        首頁 > 光學設備 > 磁控濺射光學鍍膜機
        MAGNETRON SPUTTERING OPTICAL COATING MACHINE 磁控濺射光學鍍膜機

              旋轉陰極裝置與行內普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高;可客制化的基板工件架結構定制,給客戶產品擺放達到最大的利用空間;全自動一體的提拉升降的轉架裝置,大幅度減少機器開關門時間,大大提高了生產效率與工藝穩定性;匯成專利離子源具有工作范圍廣能量均衡,高離化率,超穩定工作效率,低耗能等特點。

              可利用時間精準控制薄膜厚度,達到設計工藝要求,節省晶控,光控環節,為客戶省去大量的膜厚儀耗材;可生產高折射率氮化薄膜,提高薄膜硬度性能;低溫成膜,可應對各種用途;自動調節氣體流量專利裝置,保持穩定的靶電壓,保證成膜品質;可選“校正板外部調節機構”。

             濺射沉積系統在側壁上裝有多個圓柱形靶材,以提高沉積速率和多層涂層,該系統配備有直流脈沖或射頻功率圓形陰極,垂直安裝的基板和圓柱形陰極可最大程度地減少涂層過程中的顆粒污染。

        AR 膜(基材玻璃透過率>91.5%):
        ■  420-680nm波段,單面平均透過率>95%,反射率小于0.5(平均值)% ;
        ■  雙面平均透過率>98%,反射率小于0.5(平均值)%;

        顏色膜或漸變色膜:
        ■  以客戶樣板為準,連續五爐隨機位置裝片或滿爐,顏色色差ΔE<1.2;
        ■  水煮測試:水煮 80℃30min,3M 百格測試(1*1mm)后大于 4B。

        Product Advantage.

        產品優勢
        HCAR系列磁控濺射光學鍍膜機包括以下關鍵功能:
        • 緊湊

          占地面積小,易于集成到工廠

        • 專利技術

          匯成自主研發離子源

        • 精準

          精確監控膜厚

        • 低溫技術

          小于70℃低溫狀態成膜

        • 自動化

          自動調節氣體流量

        • 簡單

          易于操作和維護

        規格
        型號 HCMS-2100
        鍍膜區域 Φ2100x H1200mm
        結構 立式前開門,SUS304不銹鋼
        性能
        轉速 10~100RPM(可變)
        成膜室抽速 3.0×10-3Pa≤30min
        極限真空度 1.0×10-4Pa
        濺射靶材 Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5 ...
        主要配置
        夾具系統 底部中心旋轉公轉夾具桶
        排氣系統 機械泵 + 羅茨泵 + 分子泵 + 低溫泵
        真空控制系統 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計
        鍍膜系統 DC或MF磁控濺射源+ 等離子體源 + 阻抗式蒸發源
        充氣系統 MFC或APC自動壓強控制儀
        膜厚控制儀 晶控或光控
        控制系統 PC+PLC
        應用
        光學薄膜應用 AR、AS/AF、NCVM、裝飾膜、HR膜等
        適用波長 380nm~780nm
        注:可客制化(數據僅供參考)

        Application cases.

        應用案例
        數碼科技(成像、顯示、電路、結構裝飾件),傳統光學、眼鏡,科學儀器、光通信、半導體、新能源



        規格
        型號 HCMS-1800
        鍍膜區域 Φ1800x H1400mm
        結構 立式前開門,SUS304不銹鋼
        性能
        轉速 10~100RPM(可變)
        成膜室抽速 3.0×10-3Pa≤30min
        極限真空度 1.0×10-4Pa
        濺射靶材 Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5 ...
        主要配置
        夾具系統 底部中心旋轉公轉夾具桶
        排氣系統 機械泵 + 羅茨泵 + 分子泵 + 低溫泵
        真空控制系統 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計
        鍍膜系統 DC或MF磁控濺射源+ 等離子體源 + 阻抗式蒸發源
        充氣系統 MFC或APC自動壓強控制儀
        膜厚控制儀 晶控或光控
        控制系統 PC+PLC
        應用
        光學薄膜應用 AR、AS/AF、NCVM、裝飾膜、HR膜等
        適用波長 380nm~780nm
        注:可客制化(數據僅供參考)
        規格
        型號 HCMS-1300
        鍍膜區域 Φ1300x H700mm
        結構 立式前開門,SUS304不銹鋼
        性能
        轉速 10~100RPM(可變)
        成膜室抽速 3.0×10-3Pa≤30min
        極限真空度 1.0×10-4Pa
        濺射靶材 Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5 ...
        主要配置
        夾具系統 底部中心旋轉公轉夾具桶
        排氣系統 機械泵 + 羅茨泵 + 分子泵 + 低溫泵
        真空控制系統 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計
        鍍膜系統 DC或MF磁控濺射源+ 等離子體源 + 阻抗式蒸發源
        充氣系統 MFC或APC自動壓強控制儀
        膜厚控制儀 晶控或光控
        控制系統 PC+PLC
        應用
        光學薄膜應用 AR、AS/AF、NCVM、裝飾膜、HR膜等
        適用波長 380nm~780nm
        注:可客制化(數據僅供參考)

        Application cases.

        應用案例

        數碼科技(成像、顯示、電路、結構裝飾件),傳統光學、眼鏡,科學儀器、光通信、半導體、新能源

        您想要了解更多嗎?

        電話:13316689188

        郵箱:office@hcvac.com

        咸宁学生服务
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