咸宁学生服务

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        HCEB系列

        大功率電子束蒸發技術

        high power E-beam evaporation technology
        真空應用解決方案提供商
        首頁 > 卷繞鍍膜設備 > EB-PVD卷繞真空鍍膜設備
        EB-PVD WEB COATING EQUIPMENT EB-PVD卷繞真空鍍膜設備

              HCEB系列是一種基于柔性材料的卷對卷鍍膜系統,采用成熟的大功率電子束蒸發技術,在聚合物薄膜或薄型金屬帶上高速沉積功能性膜層。HCVAC可以根據顧客所需求的規格制造緊湊型或大批量生產型鍍膜系統,能夠在最大程度上提升產品生產的效率,大批量生產,可用于單面或雙面沉積的應用,HCVAC為聚合物和金屬膜薄膜應用提供量身定制的卷繞鍍膜解決方案。

        特點:

        氣撐式冷卻鼓
        在雙面涂層或金屬箔基材的情況下,增強基材與冷卻鼓之間的接觸
        坩堝位置可調,快速沉積
        大功率電子束槍
        完美聚焦
        高達50kV的加速電壓,實現更高的速率
        無切斷中頻電源
        經過優化,維護保養快速便捷

        Product Advantage.

        產品優勢
        HCEB系列EB-PVD卷繞真空鍍膜設備包括以下關鍵功能:
        • 卓越

          高系統的通用性和靈活性

        • 智能

          智能機器理念保證品質

        • 簡單

          易于操作和清潔

        • 設計緊湊

          設施占地面積最小

        • 溫控

          溫控涂層輥筒(-15至+80°C)

        • 穩健設計

          易于維護和機器高正常運行時間

        型號 HCEB-800
        幅寬 800mm
        卷徑 Max.Φ650mm
        卷繞速度 0.5~20.0 m/min
        卷繞張力 10~2000 N
        基材 PET,  金屬 (metal), etc
        基材厚度 25~125 μm
        涂層 Cu, Al, Ag, Ti, Zn, SiOx, Cr, 鋅鎂合金(Zn-Mg alloy)
        膜厚 Max. 2μm
        鍍膜模式 單面鍍膜,雙面鍍膜
        注:可客制化(數據僅供參考)

        Application cases.

        應用案例
        型號 HCEB-1650
        幅寬 1650mm
        卷徑 Max.Φ650mm
        卷繞速度 0.5~20.0 m/min
        卷繞張力 10~2000 N
        基材 PET,  金屬 (metal), etc
        基材厚度 25~125 μm
        涂層 Cu, Al, Ag, Ti, Zn, SiOx, Cr, 鋅鎂合金(Zn-Mg alloy)
        膜厚 Max. 2μm
        鍍膜模式 單面鍍膜,雙面鍍膜
        注:可客制化(數據僅供參考)

        Application cases.

        應用案例
        您想要了解更多嗎?

        電話:13316689188

        郵箱:office@hcvac.com

        咸宁学生服务
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